ECR-CVD制备a-SixN：H薄膜及其发光性能的研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-7页
第一章 引言	第7-12页
·硅基发光材料研究的背景及意义	第7-8页
·硅基发光材料研究的历史	第8-10页
·本论文的研究思路和主要内容	第10-12页
第二章 实验	第12-18页
·ECR等离子体的基本原理	第12-14页
·实验装置	第14-15页
·基片的清洗	第15-16页
·薄膜的沉积	第16页
·电致发光器件的制作	第16-18页
第三章 薄膜的表征	第18-30页
·膜厚测量	第18-19页
·发射光谱	第19-22页
·红外透射光谱	第22-23页
·X射线光电子能谱	第23-25页
·紫外可见光谱分析(UV)	第25-27页
·固体的发光	第27-30页
第四章 薄膜生长及其发光性能的研究	第30-41页
·薄膜的生长	第30-37页
·前驱等离子体的发射光谱	第30-31页
·薄膜的生长速率	第31-32页
·薄膜的红外透射光谱	第32-36页
·薄膜的X射线光电子能谱	第36-37页
·小结	第37页
·薄膜的光电性质	第37-41页
·光致发光	第37-38页
·电致发光	第38-40页
·发光机理	第40-41页
第五章 结语	第41-42页
参考文献	第42-44页
硕士期间发表的论文	第44-45页
致谢	第45-46页
中文详细摘要	第46-48页