| 导论 | 第1-9页 |
| 第一章 我国高技术R&D背景变化及引进的发展趋势 | 第9-13页 |
| 第一节 WTO规则下我国高技术自主研发的背景变化 | 第9-10页 |
| 第二节 跨国公司对我国高技术输出的策略变化 | 第10-13页 |
| 第二章 R&D溢出效应的理论分析 | 第13-16页 |
| 第一节 R&D溢出效应形成的根源 | 第13-15页 |
| 第二节 产业层次中R&D活动的溢出效应 | 第15页 |
| 第三节 基于内生增长理论的R&D溢出效应 | 第15-16页 |
| 第三章 利用R&D溢出效应与我国高技术引进战略的调整 | 第16-23页 |
| 第一节 近几年我国高技术引进的状况 | 第16-17页 |
| 第二节 我国R&D现状及其利用R&D溢出效应的机遇 | 第17-21页 |
| 第三节 利用R&D溢出效应对我国高技术引进战略调整的意义 | 第21-23页 |
| 第四章 我国高技术引进中充分利用R&D溢出效应的对策 | 第23-29页 |
| 第一节 制度上革新 | 第24-25页 |
| 第二节 政府角色重新定位 | 第25-26页 |
| 第三节 高技术研发人才的培养 | 第26-29页 |
| 参考文献 | 第29-31页 |
| 作者在校期间发表的论文 | 第31-32页 |
| 致谢 | 第32页 |