| 中文摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-10页 |
| 第二章 综述 | 第10-16页 |
| ·硫化氢的测定和硫化氢气敏传感器 | 第10页 |
| ·气敏传感器的分类 | 第10-11页 |
| ·半导气敏体传感器的发展 | 第11-13页 |
| ·课题意义和SnO_2基硫化氢气敏传感器的研究现状 | 第13-16页 |
| 第三章 SnO_2的敏感机理 | 第16-26页 |
| ·能带理论和气敏机理 | 第16-19页 |
| ·半导体的表面及其对气体的吸附 | 第19页 |
| ·活化吸附理论 | 第19-20页 |
| ·分子在固体表面的行为 | 第20-21页 |
| ·传感器模型 | 第21-23页 |
| ·气敏传感器存在的主要问题 | 第23页 |
| ·传感器的优化 | 第23-26页 |
| 第四章 SnO_2气敏材料和传感器的结构特点 | 第26-30页 |
| ·SnO_2气敏材料结构特点 | 第26-28页 |
| ·SnO_2基气敏传感器的特点 | 第28页 |
| ·SnO_2气敏传感器的性能指标 | 第28-30页 |
| 第五章 烧结型硫化氢气敏传感器 | 第30-35页 |
| ·SnO_2粉体的制备 | 第30页 |
| ·电极制备 | 第30页 |
| ·烧结型传感器的制备 | 第30-31页 |
| ·结果分析 | 第31-34页 |
| ·XRD分析 | 第31页 |
| ·敏感性检测装置 | 第31-32页 |
| ·对H_2S的敏感性 | 第32页 |
| ·对水蒸气的敏感性 | 第32-33页 |
| ·对氨的敏感性 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第六章 薄膜型硫化氢气敏传感器 | 第35-46页 |
| ·熔胶的制备 | 第35页 |
| ·水热法 | 第35页 |
| ·水解法一 | 第35页 |
| ·水解法二 | 第35页 |
| ·电极的制备 | 第35-36页 |
| ·薄膜型传感器的制备 | 第36-45页 |
| ·镀膜方法一 | 第36页 |
| ·影像分析 | 第36页 |
| ·XRD分析 | 第36页 |
| ·敏感性分析 | 第36-40页 |
| ·电阻与温度的关系 | 第36-37页 |
| ·对硫化氢的敏感性 | 第37页 |
| ·H_2S浓度的控制 | 第37-39页 |
| ·H_2S气体浓度的测定 | 第39页 |
| ·对H_2S的敏感性 | 第39-40页 |
| ·镀膜方法二 | 第40-41页 |
| ·影像分析 | 第41页 |
| ·XRD分析 | 第41页 |
| ·敏感性分析 | 第41-45页 |
| ·电阻和温度的关系 | 第41-42页 |
| ·对硫化氢的响应 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第七章 静电自组装法 | 第46-51页 |
| ·简介 | 第46-49页 |
| ·操作步骤 | 第49页 |
| ·颗粒的Zeta电位 | 第49页 |
| ·镀膜 | 第49页 |
| ·XRD分析 | 第49-50页 |
| ·AFM分析 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第八章 总结与讨论 | 第51-55页 |
| 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 附录 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |