| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 第二章 光学性质和磁光克尔效应的基础理论 | 第15-38页 |
| 1 光学常数及色散关系 | 第15-18页 |
| 2 光学常数的测量原理 | 第18-20页 |
| 3 激子光谱 | 第20-27页 |
| 4 磁光克尔效应的基本理论和测量原理 | 第27-35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 第三章 Ag_xO薄膜的结构和光学性质的研究 | 第38-52页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 MOCVD制备的GaN薄膜的结构和光学性质的研究 | 第52-61页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第五章 CN_x薄膜的结构和光学性质的研究 | 第61-69页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第六章 Ag／TbFeCo双层膜短波长区的磁光克尔增强效应 | 第69-78页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 第七章 结论 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 发表论文目录 | 第80-81页 |