| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第11-12页 |
| ·氮化钛(TiN_x)的结构与基本特性 | 第12-14页 |
| ·氮化钛的结构 | 第12-14页 |
| ·氮化钛的基本特性 | 第14页 |
| ·氮化钛薄膜研究现状 | 第14-21页 |
| ·氮化钛薄膜机械性能的研究 | 第14-17页 |
| ·氮化钛薄膜光学性能的研究 | 第17-18页 |
| ·氮化钛薄膜的电学性能 | 第18-21页 |
| ·本课题研究的内容及意义 | 第21-22页 |
| 第二章 磁控溅射镀膜技术 | 第22-30页 |
| ·溅射镀膜的原理 | 第22-26页 |
| ·辉光放电的原理 | 第22-25页 |
| ·溅射的过程 | 第25-26页 |
| ·反应磁控溅射的原理 | 第26-30页 |
| ·磁控溅射 | 第26-28页 |
| ·反应溅射 | 第28-30页 |
| 第三章 氮化钛薄膜制备过程和结构性能测试 | 第30-35页 |
| ·制备氮化钛薄膜的设备和源材料 | 第30页 |
| ·氮化钛薄膜制备的实验过程 | 第30-32页 |
| ·基片的清洗 | 第30页 |
| ·氮化钛薄膜的制备 | 第30-32页 |
| ·氮化钛薄膜的结构与导电性能测试 | 第32-35页 |
| ·物相分析(X射线衍射) | 第32页 |
| ·表面形貌分析(原子力显微镜) | 第32-33页 |
| ·薄膜厚度测试(台阶仪) | 第33页 |
| ·电阻率测试(四探针测试仪) | 第33页 |
| ·光学反射率的测试(紫外可见分光光度计) | 第33-35页 |
| 第四章 测量结果与讨论 | 第35-71页 |
| ·基底对TiN_x薄膜结构与性能的影响 | 第35-38页 |
| ·基底对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第36页 |
| ·基底对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·腔体气压气压对TiN_x薄膜的结构与性能影响 | 第38-47页 |
| ·腔体气压对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第38-40页 |
| ·腔体气压对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·腔体气压对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第43-44页 |
| ·腔体气压对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第44-46页 |
| ·腔体气压对TiN_x薄膜光学反射率的影响 | 第46-47页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜结构与性能的影响 | 第47-55页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第47-48页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第48-52页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第52-53页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第53-54页 |
| ·基底温度对TiN_x薄膜光学反射率的影响 | 第54-55页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜结构与性能的影响 | 第55-63页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第56-57页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第57-60页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第60-61页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第61-62页 |
| ·Ar/N_2流量比对TiN_x薄膜光学反射率的影响 | 第62-63页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜的结构与性能的影响 | 第63-71页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响 | 第63-64页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜表面形貌的影响 | 第64-67页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜厚度的影响 | 第67-68页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜电阻率的影响 | 第68-69页 |
| ·溅射电流对TiN_x薄膜光学反射率的影响 | 第69-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第80页 |
