基于表面等离子体及半导体准一维纳米结构的光子器件研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-29页 |
| ·提高平面光子器件集成度的若干途径 | 第10-17页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·光子晶体波导 | 第12-14页 |
| ·高折射率差介质波导 | 第14-16页 |
| ·表面等离子体波导及器件 | 第16-17页 |
| ·表面等离子体及其研究进展 | 第17-27页 |
| ·表面等离子体的研究历史及概况 | 第17-22页 |
| ·表面等离子体在光子集成中的应用 | 第22-27页 |
| ·本论文的研究内容与创新点 | 第27-29页 |
| 第2章 表面等离子体基本理论 | 第29-54页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·金属的色散模型 | 第29-33页 |
| ·金属/介质单界面上的表面等离子体 | 第33-40页 |
| ·多层结构中的表面等离子体 | 第40-53页 |
| ·概论 | 第40-44页 |
| ·IMI结构的性质及应用分析 | 第44-46页 |
| ·MIM结构的性质及应用分析 | 第46-50页 |
| ·IMI与MIM结构的比较 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第3章 二维表面等离子体波导及器件研究 | 第54-71页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·定向耦合器及马赫-曾德干涉仪 | 第54-60页 |
| ·波导布拉格光栅 | 第60-65页 |
| ·六角形共振环 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 三维表面等离子体波导及器件研究 | 第71-96页 |
| ·引言 | 第71-74页 |
| ·金属槽表面等离子体波导 | 第74-78页 |
| ·表面等离子体波导中的多模干涉耦合器 | 第78-85页 |
| ·介质加载型表面等离子体波导 | 第85-87页 |
| ·等效折射率法在表面等离子体器件中的应用 | 第87-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第5章 表面等离子体波导的制备 | 第96-107页 |
| ·引言 | 第96页 |
| ·工艺介绍 | 第96-104页 |
| ·金属镀膜 | 第96-98页 |
| ·电子束曝光技术 | 第98-100页 |
| ·光刻胶及其处理 | 第100-102页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第102-103页 |
| ·剥离 | 第103-104页 |
| ·表面等离子体波导的制备 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第6章 半导体准—维纳米结构的制备及光子学应用 | 第107-123页 |
| ·引言 | 第107-108页 |
| ·半导体准—维纳米结构的制备及表征 | 第108-117页 |
| ·半导体准—维纳米材料的制备 | 第108-111页 |
| ·半导体准—维纳米材料的表征 | 第111-115页 |
| ·半导体准—维纳米材料发光光谱的研究 | 第115-117页 |
| ·波导应用及测试 | 第117-121页 |
| ·本章小结 | 第121-123页 |
| 第7章 总结与展望 | 第123-126页 |
| 参考文献 | 第126-138页 |
| 在攻读博士期间发表的论文 | 第138-139页 |
| 致谢 | 第139页 |
