| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 序言 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO的晶格结构和物理参数 | 第8-10页 |
| ·ZnO的晶格结构 | 第9页 |
| ·ZnO的基本物理参数 | 第9-10页 |
| ·光子晶体简介 | 第10-18页 |
| ·光子晶体的分类 | 第11-12页 |
| ·光子晶体的原理和研究方法 | 第12-15页 |
| ·光子晶体的应用 | 第15-17页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验仪器、原理和研究方法 | 第20-32页 |
| ·分子束外延技术简介 | 第20-22页 |
| ·分子束外延技术的定义及优点 | 第20页 |
| ·分子束外延生长原理 | 第20-22页 |
| ·射频等离子体辅助分子束外延设备 | 第22-28页 |
| ·分子束外延设备的进样室和传样室 | 第23页 |
| ·分子束外延设备的生长室 | 第23-27页 |
| ·样品台及各源炉测温原理 | 第27-28页 |
| ·研究手段介绍. | 第28-32页 |
| ·扫描电子显微镜技术(SEM) | 第28-30页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第30-32页 |
| 第三章 二维孔点阵Si衬底化学清洗与表面形貌研究 | 第32-38页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·衬底的化学清洗过程 | 第32-33页 |
| ·Si衬底的表面形貌及化学清洗对表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·Si衬底的表面形貌 | 第33页 |
| ·HF酸化学刻蚀对Si衬底表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·Si衬底的表面晶格结构 | 第35-38页 |
| 第四章 Si基二维孔构ZnO周期结构薄膜的生长及性能研究 | 第38-45页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·Si基ZnO低温界面工程+双温缓冲层简介 | 第38-40页 |
| ·衬底晶面及外延生长温度对ZnO薄膜结晶质量及表面周期形貌的影响 | 第40-44页 |
| ·ZnO薄膜在Si(100)衬底上的生长及结晶质量和周期形貌的表征 | 第40-42页 |
| ·ZnO薄膜在Si(111)衬底上的生长及结晶质量和周期形貌的表征 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及参加的工作 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
