自体等离子体辅助电子束蒸镀技术研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第1章 绪论	第8-17页
·课题背景	第8-9页
·国内外研究现状及分析	第9-15页
·传统电子束蒸镀	第9-11页
·离子镀	第11-13页
·离子束辅助镀膜	第13-15页
·研究现状分析	第15页
·课题研究内容	第15-17页
第2章 实验装置的设计及离化实验	第17-28页
·实验装置的设计	第17-20页
·离化环的设计	第17-19页
·放电电路及离子流检测电路	第19-20页
·离化实验	第20-27页
·实验过程与实验现象	第20-21页
·起辉条件与维持电压	第21-23页
·工艺参数对离子流的影响	第23-27页
·本章小结	第27-28页
第3章 伏安特性测试及发射光谱测试	第28-39页
·直流放电模式	第28-29页
·辉光放电的伏安特性测试	第29-30页
·等离子体发射光谱测试	第30-38页
·发射光谱测试原理	第30-31页
·等离子体发射光谱测试实验	第31-33页
·测试结果与分析	第33-38页
·本章小结	第38-39页
第4章 膜基结合强度测试与分析	第39-47页
·膜基结合机理	第39-40页
·等离子体辅助镀膜实验	第40-41页
·膜基结合强度测试与分析	第41-47页
·划痕法测试原理	第41-42页
·划痕法测试方案	第42页
·膜间结合强度测试结果与分析	第42-47页
·本章小结	第47页
结论	第47-49页
参考文献	第49-53页
致谢	第53页