| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-32页 |
| ·形状记忆合金的应用与发展 | 第11-19页 |
| ·形状记忆合金的发展历史 | 第11-12页 |
| ·形状记忆合金的应用概况 | 第12-16页 |
| ·形状记忆合金的性能及特点 | 第16-19页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜的制备方法及制备工艺 | 第19-23页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·沉积参数对 TiNi 形状记忆合金薄膜的影响 | 第22-23页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜的相变行为及各种性能 | 第23-30页 |
| ·TiNi 薄膜的相变过程 | 第23-26页 |
| ·TiNi 薄膜中的析出相 | 第26-28页 |
| ·TiNi 薄膜的力学性能 | 第28-29页 |
| ·TiNi 薄膜中的残余应力 | 第29-30页 |
| ·选题目的和研究意义 | 第30-32页 |
| 第2章 TiNi 薄膜生长机理及表面形貌分析 | 第32-49页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·样品制备及实验过程 | 第33-34页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第34-47页 |
| ·薄膜生长实验结果分析与讨论 | 第34-39页 |
| ·不同溅射压强下 TiNi 薄膜表面形貌分析 | 第39-45页 |
| ·退火温度对 TiNi 薄膜表面及结构的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 溅射压强及热处理条件对 TiNi 薄膜组织成分的影响 | 第49-62页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验过程 | 第49-50页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第50-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 不同溅射压强及热处理条件下薄膜的力学性能 | 第62-73页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验过程 | 第62-63页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第63-72页 |
| ·薄膜残余应力发展 | 第63-67页 |
| ·溅射压强及退火温度对薄膜力学性能的影响 | 第67-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第5章 结论及展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 致谢 | 第82页 |