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电子束蒸发用ZAO靶材的制备

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 引言第10-25页
 §1-1 研究背景第10-14页
 §1-2 影响载流子迁移率的散射机制第14-16页
 §1-3 金属氧化物晶体中的点缺陷及K-V 图第16-20页
  1-3-1 金属氧化物中的点缺陷第16页
  1-3-2 点缺陷的施主或受主作用及能级的位置第16-17页
  1-3-3 金属氧化物晶体点缺陷理论基础质量作用定律第17-20页
 §1-4 ZAO 靶材研究现状第20-23页
 §1-5 本论文的研究内容第23-25页
第二章 ZnO陶瓷靶材性能表征手段及制膜设备简介第25-30页
 §2-1 霍尔测试—Hall第25页
 §2-2 X 射线衍射—XRD第25-26页
 §2-3 扫描电子显微镜—SEM第26-27页
 §2-4 差热扫描量热法—DSC第27-28页
 §2-5 电子束加热反应蒸发法及设备介绍第28-30页
  2-5-1 电子束加热反应蒸发法第28-29页
  2-5-2 实验设备第29-30页
第三章 电子束蒸发用 ZnO陶瓷靶材的制备及性能研究第30-51页
 §3-1 粘合剂的选择第30-31页
 §3-2 烧结末期烧结时间对靶材性质的影响第31-37页
  3-2-1 引言第31页
  3-2-2 烧结工艺曲线的初步确定第31-35页
  3-2-3 烧结末期保温时间的研究第35-37页
 §3-3 粉末粒径对靶材性质的影响第37-43页
  3-3-1 引言第37页
  3-3-2 实验方法第37-38页
  3-3-3 实验结果及分析第38-42页
  3-3-4 小结第42-43页
 §3-4 烧结气氛对靶材性质的影响第43-51页
  3-4-1 引言第43页
  3-4-2 实验方法第43-44页
  3-4-3 实验结果及分析第44-50页
  3-4-4 小结第50-51页
第四章 结 论第51-52页
参考文献第52-55页
致谢第55页

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