摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
第一章 绪论 | 第13-28页 |
·浆料简介 | 第13-18页 |
·分散体系 | 第13-15页 |
·颗粒的分散 | 第15-16页 |
·分散稳定性 | 第16-18页 |
·现有浆料稳定性测试方法 | 第18-27页 |
·沉降法 | 第19页 |
·浊度法 | 第19页 |
·显微镜法 | 第19-20页 |
·粒度分布测量法 | 第20-21页 |
·流变法 | 第21页 |
·测力法 | 第21-22页 |
·ZETA 电位法 | 第22-27页 |
·颗粒表面双电层模型 | 第22-24页 |
·颗粒表面双电层中的电位 | 第24页 |
·Ζ电位测量的基本原理 | 第24-27页 |
·其他稳定性测量方法 | 第27页 |
·研究内容目标和意义 | 第27页 |
·研究内容目标 | 第27页 |
·研究意义 | 第27页 |
·本章小结 | 第27-28页 |
第二章 稳定性测试系统的研制 | 第28-52页 |
·LC 振荡电路 | 第30-41页 |
·振荡电路 | 第30-35页 |
·反馈振荡电路的原理 | 第30-32页 |
·反馈振荡电路的平衡条件 | 第32-33页 |
·反馈振荡电路的起振条件 | 第33-34页 |
·反馈振荡电路的稳定条件 | 第34-35页 |
·LC 振荡电路 | 第35-37页 |
·用于测试系统的改进型LC 振荡电路 | 第37-41页 |
·克拉泼(Clapp)振荡电路 | 第37-38页 |
·西勒(Siler)振荡电路 | 第38-39页 |
·测试系统使用的振荡电路 | 第39-41页 |
·机械控制系统 | 第41-50页 |
·升降机构 | 第41-43页 |
·控制系统 | 第43-50页 |
·变压器 | 第43-44页 |
·直流可控硅电源 | 第44页 |
·电磁继电器 | 第44-48页 |
·直流电机 | 第48页 |
·限位开关 | 第48-49页 |
·升降台控制电路 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第三章 纳米磁流体的制备及稳定性测量 | 第52-74页 |
·磁流体简介 | 第52-61页 |
·磁流体的定义及其结构 | 第52-53页 |
·纳米级磁性颗粒 | 第52页 |
·表面活性剂 | 第52-53页 |
·载液 | 第53页 |
·磁流体的发展及现状 | 第53页 |
·磁流体的未来趋势 | 第53页 |
·磁流体的制备方法 | 第53-56页 |
·铁酸盐系磁流体的制备方法 | 第53-54页 |
·金属系磁流体的制备方法 | 第54页 |
·氮化铁系磁流体的制备方法 | 第54-56页 |
·磁流体的工作原理和应用范围及其性能指标 | 第56-57页 |
·磁流体的工作原理和应用范围 | 第56-57页 |
·磁流体的典型应用 | 第57-60页 |
·磁流体密封 | 第57-58页 |
·磁流体研磨 | 第58页 |
·磁流体阻尼 | 第58-59页 |
·磁流体润滑 | 第59页 |
·磁流体在扬声器上的应用 | 第59页 |
·磁流体在分离技术方面的应用 | 第59-60页 |
·磁流体在生物医学方面的应用 | 第60页 |
·磁流体研究的瓶颈和展望 | 第60-61页 |
·磁流体的瓶颈 | 第60页 |
·磁流体的展望 | 第60-61页 |
·实验部分 | 第61-62页 |
·实验原料与仪器 | 第61页 |
·实验原料及来源 | 第61页 |
·主要实验仪器设备 | 第61页 |
·主要实验过程 | 第61-62页 |
·纳米Fe_3O_4 颗粒的制备 | 第61-62页 |
·纳米Fe_3O_4 磁流体的制备 | 第62页 |
·纳米Fe_3O_4 磁流体稳定性的测量 | 第62页 |
·结果与讨论 | 第62-73页 |
·弱磁场辅助氧化共沉淀制备纳米Fe304 颗粒 | 第62-63页 |
·KH560 与Span80 对纳米Fe_3O_4 磁流体稳定性的影响 | 第63-71页 |
·无机电解质分散剂 | 第64页 |
·表面活性剂 | 第64页 |
·偶联剂 | 第64-65页 |
·各浓度 KH560 与Span80 配制的纳米Fe_3O_4 磁流体稳定性测试数据 | 第65-71页 |
·本测试系统对浆料稳定性的评价 | 第71-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
研究创新点 | 第74-75页 |
结论与展望 | 第75-76页 |
结论 | 第75页 |
展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-81页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82页 |