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基于AIEE和ESIPT机理的荧光染料分子的合成与性质研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 引言第9页
    1.2 AIE的概述第9-12页
        1.2.1 分子内旋转受限(RIR)第9-11页
        1.2.2 分子内振动受限(RIV)第11-12页
        1.2.3 分子内运动受限(RIM)第12页
    1.3 荧光探针的识别机理第12-16页
        1.3.1 光诱导电子转移(PET)第13-14页
        1.3.2 分子内电荷转移(ICT)第14页
        1.3.3 荧光共振能量转移(FRET)第14页
        1.3.4 激发态分子内质子转移(ESIPT)第14-16页
    1.4 结晶诱导发光增强第16-18页
    1.5 AIE+ESIPT分子与刺激响应荧光材料第18-20页
    1.6 Cu~(2+)荧光探针概述第20-22页
        1.6.1 Cu~(2+)概述第20-22页
    1.7 本论文的研究内容第22-23页
第二章 HBI修饰的TPE类化合物R_1-R_3的合成第23-28页
    2.1 引言第23页
    2.2 HBI修饰的TPE类化合物的合成第23-27页
        2.2.1 4,4',4'',4'''-四羟基-3,3',3'',3'''-四醛基四苯乙烯的合成第24-25页
        2.2.2 化合物R_1-R_3的合成步骤第25-27页
    2.3 小结第27-28页
第三章 HBI修饰的TPE类化合物聚集态光物理性质研究第28-40页
    3.1 引言第28页
    3.2 R_1-R_3的AIEE性质研究第28-34页
        3.2.1 化合物R_1的AIEE性质研究第28-29页
        3.2.2 化合物R_2的AIEE研究第29-30页
        3.2.3 化合物R_3的AIEE研究第30-31页
        3.2.4 化合物R_1的CIEE性质研究第31-34页
    3.3 化合物R_1-R_3的外界刺激响应变色行为研究第34-39页
        3.3.1 化合物R_1的外界刺激响应变色行为研究第34-35页
        3.3.2 化合物R_2的外界刺激响应变色行为研究第35-36页
        3.3.3 化合物R_3的外界刺激响应变色行为研究第36-39页
    3.4 小结第39-40页
第四章 TPE衍生物金属离子选择性识别研究第40-51页
    4.1 引言第40页
    4.2 化合物R_1的光谱测定第40-43页
        4.2.1 化合物R_1的的金属离子选择性第40-42页
        4.2.2 化合物R_1与Cu~(2+)的光谱性质研究第42页
        4.2.3 化合物R_1与Cu~(2+)的络合图第42-43页
    4.3 化合物R_2的光谱测定第43-46页
        4.3.1 化合物R_2的的金属离子选择性第43-45页
        4.3.2 化合物R_2与Cu~(2+)的光谱性质研究第45页
        4.3.3 化合物R_2与Cu~(2+)的络合图第45-46页
    4.4 化合物R_3的光谱测定第46-50页
        4.4.1 化合物R_3的的金属离子选择性第46-48页
        4.4.2 化合物R_3与Cu~(2+)的光谱性质研究第48页
        4.4.3 化合物R_3与Cu~(2+)的络合图第48-50页
    4.5 小结第50-51页
第五章 结论第51-52页
参考文献第52-59页
发表论文和科研情况说明第59-60页
致谢第60-61页
附录第61-65页

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