| 中文摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第9页 |
| 1.2 纳米铜线的制备方法 | 第9-12页 |
| 1.3 纳米铜线的生长机理 | 第12-19页 |
| 1.4 透明导电薄膜的研究和应用前景 | 第19-22页 |
| 1.4.1 透明导电薄膜的分类 | 第19-21页 |
| 1.4.2 透明导电薄膜的制备方法 | 第21-22页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 纳米铜线的制备及生长机理分析 | 第23-34页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验内容 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第24页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.3 实验步骤 | 第25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-33页 |
| 2.3.1 纳米铜线XRD、SEM、SAED表征 | 第25-27页 |
| 2.3.2 纳米铜线TEM表征 | 第27-28页 |
| 2.3.3 纳米铜线生长机理研究 | 第28-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 制备工艺参数对纳米铜线结构和形貌的影响 | 第34-56页 |
| 3.1 实验准备 | 第34-35页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第34页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第34-35页 |
| 3.2 油胺的用量对纳米铜线形貌的影响 | 第35-40页 |
| 3.2.1 实验方案 | 第35页 |
| 3.2.2 实验结果与分析 | 第35-40页 |
| 3.2.3 小结 | 第40页 |
| 3.3 Ni(acac)_2的用量对纳米铜线形貌的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.1 实验方案 | 第40-41页 |
| 3.3.2 实验结果与分析 | 第41-44页 |
| 3.3.3 小结 | 第44-45页 |
| 3.4 反应温度对纳米铜线形貌的影响 | 第45-50页 |
| 3.4.1 实验方案 | 第45页 |
| 3.4.2 实验结果与分析 | 第45-49页 |
| 3.4.3 小结 | 第49-50页 |
| 3.5 Cl~-对纳米铜线形成的作用 | 第50-54页 |
| 3.5.1 实验方案 | 第50页 |
| 3.5.2 实验结果与分析 | 第50-54页 |
| 3.5.3 小结 | 第54页 |
| 3.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 纳米铜线透明导电薄膜的制备与应用 | 第56-70页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验内容 | 第57-59页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第57页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第57-58页 |
| 4.2.3 实验步骤 | 第58-59页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第59-68页 |
| 4.3.1 纳米铜线己烷溶液UV-Vis-NIR表征 | 第59页 |
| 4.3.2 退火温度对透明导电薄膜导电性的影响 | 第59-62页 |
| 4.3.3 不同长径比纳米铜线对透明导电薄膜光电性能的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.4 纳米铜线透明导电薄膜透光性与导电性之间的关系 | 第64-67页 |
| 4.3.5 纳米铜线透明导电薄膜的稳定性分析 | 第67-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第5章 结论 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表文章 | 第79页 |
