| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 国内外相关领域研究进展 | 第10-24页 |
| 1.1 光催化技术研究进展 | 第10-17页 |
| 1.1.1 半导体光催化原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 半导体光催化技术存在的问题 | 第11-12页 |
| 1.1.3 提高光催化活性的途径 | 第12-17页 |
| 1.2 石墨相氮化碳(g-C_3N_4)在光催化领域的研究 | 第17-20页 |
| 1.2.1 g-C_3N_4光催化材料介绍 | 第17-18页 |
| 1.2.2 g-C_3N_4基复合光催化材料研究现状 | 第18-20页 |
| 1.3 三氧化钨(WO_3)在光催化领域的研究 | 第20-22页 |
| 1.3.1 WO_3光催化材料介绍 | 第20-21页 |
| 1.3.2 WO_3基复合光催化材料研究现状 | 第21-22页 |
| 1.4 选题依据、研究内容和意义 | 第22-24页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第22-23页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第23页 |
| 1.4.3 研究意义 | 第23-24页 |
| 2 实验方法 | 第24-32页 |
| 2.1 实验药品和仪器 | 第24-26页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第24-25页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.2 光催化剂的制备及表征 | 第26-28页 |
| 2.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第26页 |
| 2.2.2 WO_3的制备 | 第26页 |
| 2.2.3 WO_3@g-C_3N_4的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.4 氧化石墨烯(GO)的制备 | 第27页 |
| 2.2.5 g-C_3N_4/RGO/WO_3的制备 | 第27页 |
| 2.2.6 光催化剂表征方法 | 第27-28页 |
| 2.3 光电化学测试 | 第28-29页 |
| 2.4 可见光催化降解实验 | 第29-32页 |
| 2.4.1 实验装置 | 第29-30页 |
| 2.4.2 目标物 | 第30页 |
| 2.4.3 实验方法 | 第30-32页 |
| 3 WO_3@g-C_3N_4纳米壳核光催化剂可见光催化性能 | 第32-48页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 WO_3@g-C_3N_4的形貌分析 | 第32-35页 |
| 3.3 WO_3@g-C_3N_4的结构分析 | 第35-38页 |
| 3.4 WO_3@g-C_3N_4的光吸收分析 | 第38-39页 |
| 3.5 WO_3@g-C_3N_4的电荷分离剂迁移能力分析 | 第39-41页 |
| 3.6 光电催化降解RhB实验结果分析 | 第41-45页 |
| 3.7 光电催化降解RhB实验机理分析 | 第45-46页 |
| 3.8 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 g-C_3N_4/RGO/WO_3Z型光催化剂可见光催化性能 | 第48-65页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 g-C_3N_4/RGO/WO_3的形貌分析 | 第49-50页 |
| 4.3 g-C_3N_4/RGO/WO_3的表面成分分析 | 第50-53页 |
| 4.4 g-C_3N_4/RGO/WO_3的光吸收分析 | 第53-54页 |
| 4.5 g-C_3N_4/RGO/WO_3的电荷分离及迁移能力分析 | 第54-55页 |
| 4.6 光催化降解环丙沙星实验结果分析 | 第55-60页 |
| 4.7 光催化降解环丙沙星实验机理研究 | 第60-64页 |
| 4.8 本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
