| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 锆合金包壳容错材料 | 第12-15页 |
| 1.2.1 锆合金的替代材料 | 第12-13页 |
| 1.2.2 锆合金的表面修饰 | 第13-15页 |
| 1.3 磁控溅射技术 | 第15-16页 |
| 1.3.1 磁控溅射原理 | 第15页 |
| 1.3.2 薄膜结构生长模型 | 第15-16页 |
| 1.4 结构设计 | 第16-18页 |
| 1.4.1 结构致密化 | 第16-17页 |
| 1.4.2 非晶结构 | 第17-18页 |
| 1.4.3 非晶涂层 | 第18页 |
| 1.5 成分确定 | 第18-22页 |
| 1.5.1 元素选择 | 第18-21页 |
| 1.5.2 元素配比 | 第21-22页 |
| 1.6 研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 Cr-Al-Si-(N)涂层的制备与表征方法 | 第24-36页 |
| 2.1 涂层制备方法 | 第24-26页 |
| 2.1.1 镀膜准备 | 第25-26页 |
| 2.1.2 涂层制备 | 第26页 |
| 2.2 涂层表征方法 | 第26-36页 |
| 2.2.1 成分表征 | 第26-28页 |
| 2.2.2 结构表征 | 第28-32页 |
| 2.2.3 性能测试 | 第32-36页 |
| 第3章 Cr-Al-Si-(N)涂层的成分和结构 | 第36-48页 |
| 3.1 涂层成分分析 | 第36页 |
| 3.2 涂层结构与形貌表征 | 第36-45页 |
| 3.2.1 涂层密度与厚度 | 第36-37页 |
| 3.2.2 物相结构 | 第37-39页 |
| 3.2.3 生长结构 | 第39-41页 |
| 3.2.4 表面形貌 | 第41-45页 |
| 3.3 基底对涂层结构的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.1 物相分析 | 第45-46页 |
| 3.3.2 生长结构 | 第46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 Cr-Al-Si-(N)涂层的力学性能研究 | 第48-52页 |
| 4.1 结合力测试 | 第48-49页 |
| 4.2 纳米压痕测试 | 第49-50页 |
| 4.3 加载深度对涂层硬度的影响 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 Cr-Al-Si-(N)涂层的抗氧化性能研究 | 第52-70页 |
| 5.1 涂层的增重速率 | 第52-54页 |
| 5.2 氧化涂层的物相结构 | 第54-55页 |
| 5.3 氧化深度和截面信息 | 第55-64页 |
| 5.3.1 1000°C下的抗氧化行为 | 第55-57页 |
| 5.3.2 1200°C下的抗氧化行为 | 第57-64页 |
| 5.4 更厚非晶Cr-Al-Si-N涂层的探索 | 第64-67页 |
| 5.4.1 物相结构 | 第64-65页 |
| 5.4.2 生长结构 | 第65页 |
| 5.4.3 抗高温水蒸汽氧化性能 | 第65-67页 |
| 5.5 氧化涂层的膜基结合力 | 第67-68页 |
| 5.6 氧化样品弯曲度测量 | 第68-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第80页 |
