| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 引言 | 第12-18页 |
| 1.1.1 化学镀及其工艺 | 第12-13页 |
| 1.1.2 以次磷酸盐为还原剂的金属镍的化学镀研究 | 第13-15页 |
| 1.1.3 以甲醛为还原剂的金属铜的化学镀研究 | 第15-18页 |
| 1.2 本论文的主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 理论基础和计算方法 | 第19-30页 |
| 2.1 概述 | 第19页 |
| 2.2 量子化学的计算方法 | 第19-24页 |
| 2.2.1 从头计算方法 | 第20-21页 |
| 2.2.2 半经验方法 | 第21-22页 |
| 2.2.3 密度泛函理论方法 | 第22-24页 |
| 2.3 基函数及其选择 | 第24-27页 |
| 2.3.1 基组及其分类 | 第24-26页 |
| 2.3.2 赝势基组 | 第26页 |
| 2.3.3 基组选择的一般原则 | 第26-27页 |
| 2.4 原子簇模型模拟表面 | 第27-28页 |
| 2.4.1 原子簇模型 | 第27页 |
| 2.4.2 原子簇模型原则 | 第27-28页 |
| 2.5 计算化学工作站的简介 | 第28-30页 |
| 2.5.1 艮泰高性能服务器 | 第28页 |
| 2.5.2 Linux系统 | 第28页 |
| 2.5.3 Gaussian软件 | 第28-30页 |
| 第三章 H_2PO_2~-在NI和CU上吸附特性的研究 | 第30-42页 |
| 3.1 计算方法和簇模型 | 第30-33页 |
| 3.1.1 计算方法 | 第30-31页 |
| 3.1.2 簇模型 | 第31-33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 3.2.1 稳定的吸附模式及其吸附能 | 第33-36页 |
| 3.2.2 吸附对H_2PO_2~-中各原子电荷布局的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.3 H_2PO_2~-吸附在Ni和Cu上的自然键合轨道(NBO)分析 | 第38-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 H_2PO_2~-吸附在NI和CU上的氧化进程的研究 | 第42-52页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 计算方法与簇模型 | 第43页 |
| 4.2.1 计算方法 | 第43页 |
| 4.2.2 簇模型 | 第43页 |
| 4.3 结果分析与讨论 | 第43-50页 |
| 4.3.1 次磷酸根在没有金属基底催化时的氧化反应 | 第43-46页 |
| 4.3.2 次磷酸根在金属镍和铜上的催化氧化过程 | 第46-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 甲醛分别在NI和CU上吸附特性的研究 | 第52-60页 |
| 5.1 计算方法与簇模型 | 第52-54页 |
| 5.1.1 计算方法 | 第52页 |
| 5.1.2 簇模型 | 第52-54页 |
| 5.2 计算结果与讨论 | 第54-59页 |
| 5.2.1 稳定的吸附模式及吸附能 | 第54-56页 |
| 5.2.2 吸附对HCHO各原子电荷的影响 | 第56-57页 |
| 5.2.3 HCHO吸附在Ni和Cu上的自然键合轨道分析 | 第57-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 甲醛在Ni和Cu金属基底上氧化进程的研究 | 第60-70页 |
| 6.1 引言 | 第60-61页 |
| 6.2 计算方法与簇模型 | 第61页 |
| 6.2.1 计算方法 | 第61页 |
| 6.2.2 簇模型 | 第61页 |
| 6.3 结果分析与讨论 | 第61-68页 |
| 6.3.1 甲醛在没有金属基底催化时的氧化反应 | 第61-64页 |
| 6.3.2 甲醛在金属镍和铜上的催化氧化过程 | 第64-68页 |
| 6.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第七章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第70页 |
| 7.2 进一步的工作与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-81页 |
| 硕士学习期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
