| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 课题的背景和意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-20页 |
| 1.2.1 生物陶瓷的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.2 含硅生物陶瓷的研究现状 | 第15-19页 |
| 1.2.3 激光熔覆制备含硅生物陶瓷涂层的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3 课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第22页 |
| 2.2 实验方法 | 第22-28页 |
| 2.2.1 预置涂层的制备 | 第22页 |
| 2.2.2 激光熔覆实验 | 第22-23页 |
| 2.2.3 熔覆层表面形貌分析 | 第23-24页 |
| 2.2.4 熔覆层微观组织和物相分析 | 第24-25页 |
| 2.2.5 熔覆层的显微硬度测试 | 第25页 |
| 2.2.6 熔覆层的电化学测试 | 第25-26页 |
| 2.2.7 熔覆层的生物活性分析 | 第26-28页 |
| 第3章 低硅生物陶瓷涂层的制备及组织性能研究 | 第28-56页 |
| 3.1 含硅生物陶瓷涂层的制备 | 第28-30页 |
| 3.1.1 含硅生物陶瓷涂层成分配比的确定 | 第28页 |
| 3.1.2 低硅量生物陶瓷涂层的预置 | 第28-30页 |
| 3.2 激光工艺参数对涂层显微组织与力学性能的影响 | 第30-38页 |
| 3.2.1 激光工艺参数对涂层宏观形貌的影响 | 第30-32页 |
| 3.2.2 激光工艺参数对涂层微观组织的影响 | 第32-36页 |
| 3.2.3 激光工艺参数对涂层物相成分的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.4 激光工艺参数对涂层显微硬度的影响 | 第37-38页 |
| 3.3 SiO_2含量对涂层的影响 | 第38-54页 |
| 3.3.1 SiO_2含量对涂层显微组织与力学性能的影响 | 第38-43页 |
| 3.3.2 SiO_2含量对涂层物相成分的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.3 SiO_2含量对涂层显微硬度的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.4 SiO_2含量对涂层耐腐蚀性能的影响 | 第46-47页 |
| 3.3.5 SiO_2含量对涂层生物活性的影响 | 第47-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 激光工艺参数对过渡涂层的影响 | 第56-69页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 不同激光工艺参数对熔覆层宏观形貌影响 | 第56-58页 |
| 4.3 不同激光工艺参数对熔覆层微观组织的影响 | 第58-65页 |
| 4.4 熔覆层的XRD结果分析 | 第65-67页 |
| 4.5 生物陶瓷涂层的显微硬度 | 第67-68页 |
| 4.6 本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 总结与展望 | 第69-73页 |
| 5.1 总结 | 第69-70页 |
| 5.2 主要创新成果 | 第70页 |
| 5.3 研究工作展望 | 第70-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 作者攻读学位期间的科研成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
