| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 合成气制低碳醇的转化路径及热力学分析 | 第13-15页 |
| 1.2.1 合成气制低碳醇的转化路径 | 第13-14页 |
| 1.2.2 合成气制低碳醇的热力学分析 | 第14-15页 |
| 1.3 合成气制低碳醇的催化剂 | 第15-19页 |
| 1.3.1 Rh基催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3.2 改性甲醇催化剂 | 第16页 |
| 1.3.3 改性F-T催化剂 | 第16-17页 |
| 1.3.4 钼基催化剂 | 第17-19页 |
| 1.4 MoP基催化剂研究进展 | 第19页 |
| 1.5 Cu-Co基催化剂研究进展 | 第19-21页 |
| 1.6 等离子体在催化方面的应用 | 第21-28页 |
| 1.6.1 等离子体的概念及分类 | 第21-22页 |
| 1.6.2 冷等离子体在催化剂制备及改性中的应用 | 第22-25页 |
| 1.6.3 热等离子体在催化剂制备及改性中的应用 | 第25-28页 |
| 1.7 选题背景及研究意义 | 第28-29页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第29-35页 |
| 2.1 实验试剂及设备 | 第29-30页 |
| 2.1.1 主要原料与试剂 | 第29-30页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第30页 |
| 2.2 催化剂表征 | 第30-32页 |
| 2.2.1 X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第30页 |
| 2.2.2 透射电镜(TEM)分析 | 第30-31页 |
| 2.2.3 程序升温脱附(H_2-TPD)分析 | 第31页 |
| 2.2.4 程序升温脱附(CO-TPD)分析 | 第31页 |
| 2.2.5 程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第31页 |
| 2.2.6 X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第31页 |
| 2.2.7 拉曼光谱(Raman)分析 | 第31-32页 |
| 2.3 催化剂合成醇性能评价 | 第32-33页 |
| 2.4 催化性能计算方法 | 第33页 |
| 2.5 等离子体设备 | 第33-35页 |
| 2.5.1 射频辉光等离子体设备 | 第33-34页 |
| 2.5.2 射频感应等离子体设备 | 第34-35页 |
| 第三章 低温冷等离子体的不同刻蚀条件对TPR-MoP催化剂结构及其性能的影响 | 第35-47页 |
| 3.1 前言 | 第35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.2.1 传统磷化钼(TPR-MoP)的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.2 TPR-MoP样品的低温冷等离子体刻蚀 | 第36页 |
| 3.2.3 助剂K的添加 | 第36页 |
| 3.3 不同处理条件对MoP催化剂的影响 | 第36-46页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射表征 | 第36-37页 |
| 3.3.2 电镜表征 | 第37-39页 |
| 3.3.3 X-射线光电子能谱表征 | 第39-41页 |
| 3.3.4 拉曼光谱表征 | 第41页 |
| 3.3.5 CO-TPD表征 | 第41-43页 |
| 3.3.6 H_2-TPD表征 | 第43页 |
| 3.3.7 催化剂活性评价 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 低温冷等离子体的刻蚀对Ar-MoP、CA-MoP催化剂结构及其性能的影响 | 第47-61页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 冷等离子体刻蚀Ar-MoP催化剂及其合成气制低碳醇性能 | 第47-54页 |
| 4.2.1 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.2.1.1 热解法磷化钼的制备(Ar-MoP) | 第47-48页 |
| 4.2.1.2 Ar-MoP样品的低温冷等离子体刻蚀 | 第48页 |
| 4.2.1.3 助剂K的添加 | 第48页 |
| 4.2.2 Ar-MoP刻蚀前后的表征 | 第48-52页 |
| 4.2.2.1 物相表征 | 第48-49页 |
| 4.2.2.2 形貌对比 | 第49-50页 |
| 4.2.2.3 高分辨电镜表征(HRTEM) | 第50页 |
| 4.2.2.4 CO-TPD表征 | 第50-51页 |
| 4.2.2.5 拉曼光谱表征 | 第51-52页 |
| 4.2.3 等离子体刻蚀前后催化性能比较 | 第52-54页 |
| 4.3 冷等离子体刻蚀CA-MoP催化剂及其合成气制低碳醇性能 | 第54-59页 |
| 4.3.1 实验部分 | 第54页 |
| 4.3.1.1 柠檬酸诱导法磷化钼的制备(CA-MoP) | 第54页 |
| 4.3.1.2 CA-MoP样品的低温冷等离子体刻蚀 | 第54页 |
| 4.3.1.3 助剂K的添加 | 第54页 |
| 4.3.2 CA-MoP刻蚀前后的表征 | 第54-58页 |
| 4.3.2.1 X-射线粉末衍射(XRD)表征 | 第54-55页 |
| 4.3.2.2 形貌及结构的对比 | 第55-56页 |
| 4.3.2.3 激光拉曼光谱(Raman)表征 | 第56-57页 |
| 4.3.2.4 程序升温脱附(CO-TPD)表征 | 第57-58页 |
| 4.3.3 CA-MoP刻蚀前后催化性能比较 | 第58-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 低温热等离子原位合成铜钴纳米合金催化剂及其合成气制低碳醇性能研究 | 第61-71页 |
| 5.1 前言 | 第61页 |
| 5.2 等离子体原位合成铜钴纳米合金催化剂 | 第61-70页 |
| 5.2.1 实验部分 | 第61-62页 |
| 5.2.1.1 传统热还原法合成 | 第61页 |
| 5.2.1.2 低温热等离子体法合成 | 第61-62页 |
| 5.2.2 催化剂表征 | 第62-69页 |
| 5.2.2.1 物相对比 | 第62-63页 |
| 5.2.2.2 形貌对比 | 第63-65页 |
| 5.2.2.3 透射电镜对比 | 第65-66页 |
| 5.2.2.4 表面化合态对比 | 第66-67页 |
| 5.2.2.5 程序升温还原(H_2-TPR)对比 | 第67-68页 |
| 5.2.2.6 表面H_2脱附(H_2-TPD)对比 | 第68-69页 |
| 5.2.3 催化性能评价 | 第69-70页 |
| 5.3 本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 结论 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-89页 |
| 附录 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
