| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 引言 | 第7-9页 |
| 第1章 ZnO 材料的基本性质和研究现状 | 第9-15页 |
| 1.1 ZnO 材料的基本性质 | 第9-10页 |
| 1.2 ZnO 材料的研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 LMBE 技术应用现状 | 第13-14页 |
| 1.4 本论文研究内容和意义 | 第14-15页 |
| 第2章 ZnO 薄膜的 LMBE 制备及物性研究 | 第15-31页 |
| 2.1 LMBE 技术简介 | 第15-17页 |
| 2.1.1 LMBE 技术特点及原理 | 第15-16页 |
| 2.1.2 LMBE 设备结构 | 第16-17页 |
| 2.2 ZnO 薄膜的制备 | 第17-18页 |
| 2.2.1 衬底的选择 | 第17页 |
| 2.2.2 ZnO 薄膜的生长 | 第17-18页 |
| 2.3 ZnO 单晶薄膜的制备与表征 | 第18-29页 |
| 2.3.1 衬底温度的影响 | 第18-24页 |
| 2.3.2 氧气压强的影响 | 第24-27页 |
| 2.3.3 激光功率密度的影响 | 第27-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 ZnO/MgZnO:Ga 异质结的制备及物性研究 | 第31-38页 |
| 3.1 异质结的理论分析 | 第31-32页 |
| 3.2 ZnO/MgZnO:Ga 异质结的制备 | 第32-33页 |
| 3.3 ZnO/MgZnO:Ga 异质结的物性研究 | 第33-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 结论 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 致谢 | 第43页 |