| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 LiNb0_3 的性质 | 第9页 |
| 1.2 LiNb0_3 的结构 | 第9-11页 |
| 1.3 LiNb0_3 掺杂工程 | 第11-12页 |
| 1.3.1 光折变掺杂 | 第11-12页 |
| 1.3.2 抗光折变掺杂 | 第12页 |
| 1.3.3 激光离子掺杂 | 第12页 |
| 1.4 本论文的意义及主要任务 | 第12-14页 |
| 第二章 扩散的相关基础理论 | 第14-21页 |
| 2.1 Fick 定律及相关参数确定 | 第14-17页 |
| 2.2 影响扩散的因素 | 第17-18页 |
| 2.3 Boltzmann-Matano 方法 | 第18-19页 |
| 2.4 扩散研究方法原理 | 第19-20页 |
| 2.4.1 二次离子质谱（SIMS） | 第19页 |
| 2.4.2 原子力显微术（AFM） | 第19-20页 |
| 2.5 溅射基本原理 | 第20-21页 |
| 第三章 LiNb0_3晶体的气相输运平衡 | 第21-36页 |
| 3.1 VTE 的相关研究背景 | 第21-22页 |
| 3.2 VTE 的实验环境 | 第22-23页 |
| 3.3 VTE 处理过程 | 第23-24页 |
| 3.4 VTE 处理后样品组分的研究手段 | 第24-32页 |
| 3.4.1 组分表征的非光学方法 | 第24-26页 |
| 3.4.2 组分表征的光学方法 | 第26-32页 |
| 3.5 缺锂VTE 处理后Mg:LN 的OH-吸收谱研究 | 第32-36页 |
| 3.5.1 缺锂VTE 处理及光谱测试过程 | 第33页 |
| 3.5.2 光谱的结果讨论 | 第33-36页 |
| 第四章 局域高掺铒铌酸锂晶体的制备及特性表征 | 第36-48页 |
| 4.1 高掺铒LN 晶体的制备 | 第36-38页 |
| 4.2 高掺铒LN 晶体的特性讨论 | 第38-48页 |
| 4.2.1 Li_20 含量 | 第38-39页 |
| 4.2.2 Er 的分布及其扩散性 | 第39-45页 |
| 4.2.3 Er 溶解度 | 第45-48页 |
| 第五章 缺锂VTE 过程和Er 扩散过程的数值分析 | 第48-63页 |
| 5.1 缺锂VTE 模型 | 第48-52页 |
| 5.1.1 缺锂VTE 模型的建立 | 第49-51页 |
| 5.1.2 缺锂VTE 中Li 的扩散性 | 第51-52页 |
| 5.2 Er 扩散模型和数值方法 | 第52-63页 |
| 5.2.1 Er 的扩散过程分析假设 | 第52-53页 |
| 5.2.2 Er 扩散的过程描述 | 第53-54页 |
| 5.2.3 Er 扩散模型 | 第54-56页 |
| 5.2.4 Er 模型中的参数确定 | 第56-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |