摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第12-35页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 磨损 | 第12-17页 |
1.2.1 磨料磨损 | 第13-15页 |
1.2.2 黏着磨损 | 第15-16页 |
1.2.3 疲劳磨损 | 第16-17页 |
1.2.4 腐蚀磨损 | 第17页 |
1.3 润滑 | 第17-19页 |
1.3.1 固体润滑剂的定义 | 第17-18页 |
1.3.2 固体润滑剂的分类 | 第18页 |
1.3.3 固体润滑剂的使用 | 第18-19页 |
1.4 类金刚石薄膜(DLC) | 第19-22页 |
1.4.1 类金刚石薄膜(DLC)的摩擦学性能 | 第19-20页 |
1.4.2 类金刚石薄膜(DLC)的制备 | 第20-21页 |
1.4.3 类金刚石薄膜DLC 的摩擦学原理 | 第21-22页 |
1.5 MoS_2 基薄膜 | 第22-27页 |
1.5.1 MoS_2 基薄膜的摩擦学性能 | 第22-23页 |
1.5.2 MoS_2 薄膜的制备 | 第23-24页 |
1.5.3 MoS_2 薄膜转移膜与基体作用机理 | 第24-27页 |
1.6 磁控溅射 | 第27-34页 |
1.6.1 溅射镀膜原理 | 第28-30页 |
1.6.2 溅射镀膜工艺 | 第30-31页 |
1.6.3 磁控溅射镀膜 | 第31-34页 |
1.7 本课题开展的意义 | 第34-35页 |
第二章 W52/MoS_2/C 复合薄膜的制备 | 第35-43页 |
2.1 引言 | 第35页 |
2.2 方案设计及准备 | 第35-37页 |
2.2.1 镀膜实验方案设计 | 第35-36页 |
2.2.2 靶材制备 | 第36页 |
2.2.3 基体预处理 | 第36-37页 |
2.3 溅射流程 | 第37-42页 |
2.3.1 溅射设备 | 第37-38页 |
2.3.2 溅射流程 | 第38-39页 |
2.3.3 溅射工艺参数 | 第39-42页 |
2.4 本章小结 | 第42-43页 |
第三章 反应溅射制备W52/MoS_2/C 复合薄膜结构与性能测试 | 第43-58页 |
3.1 引言 | 第43页 |
3.2 薄膜的表征、测试及分析 | 第43-48页 |
3.2.1 XRD、EDX 分析 | 第43-46页 |
3.2.2 FESEM 分析 | 第46-48页 |
3.3 薄膜的性能测试 | 第48-57页 |
3.3.1 薄膜的结合力测试 | 第48-50页 |
3.3.2 薄膜的硬度测试 | 第50-52页 |
3.3.3 薄膜的摩擦磨损性能测试 | 第52-57页 |
3.4 本章小结 | 第57-58页 |
第四章 共溅射制备W52/MoS_2/C 复合薄膜结构与性能测试 | 第58-66页 |
4.1 引言 | 第58页 |
4.2 薄膜的表征、测试及分析 | 第58-60页 |
4.2.1 XRD、EDX 分析 | 第58-60页 |
4.3 薄膜的性能测试 | 第60-65页 |
4.3.1 薄膜的结合力测试 | 第60-62页 |
4.3.2 薄膜的硬度测试 | 第62-63页 |
4.3.3 薄膜的摩擦系数测试 | 第63-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-66页 |
第五章 结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
附录 | 第76-78页 |