| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 微透镜阵列的制备 | 第9-11页 |
| 1.2 电铸技术在微制造领域的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 电铸微模芯均匀性研究现状 | 第12-18页 |
| 1.4 课题来源及论文主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 课题来源 | 第18页 |
| 1.4.2 论文主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 电铸微模芯均匀性理论基础 | 第20-27页 |
| 2.1 铸层生长理论 | 第20-22页 |
| 2.2 铸层厚度均匀性的影响因素 | 第22-26页 |
| 2.2.1 电场分布 | 第22-24页 |
| 2.2.2 流场分布 | 第24-26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 电流密度分布对电铸模芯均匀性的影响研究 | 第27-42页 |
| 3.1 阴极表面电流密度分布的仿真研究 | 第27-34页 |
| 3.1.1 物理模型的建立 | 第27-28页 |
| 3.1.2 单元网格的划分 | 第28-29页 |
| 3.1.3 阴极表面电流密度仿真结果分析 | 第29-34页 |
| 3.2 阴极表面电流密度分布实验研究 | 第34-41页 |
| 3.2.1 屏蔽挡板对模芯厚度均匀性的影响研究 | 第36-38页 |
| 3.2.2 辅助阴极对模芯厚度均匀性的影响研究 | 第38-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 4 阴极运动对电铸模芯厚度均匀性的影响研究 | 第42-56页 |
| 4.1 运动阴极表面流场仿真研究 | 第42-49页 |
| 4.1.1 物理模型的建立 | 第42-43页 |
| 4.1.2 单元网格的划分 | 第43-44页 |
| 4.1.3 阴极表面流场仿真结果分析 | 第44-49页 |
| 4.2 运动阴极表面流场实验研究 | 第49-55页 |
| 4.2.1 阴极旋转对模芯均匀性的影响研究 | 第50-52页 |
| 4.2.2 阴极水平往复运动对模芯均匀性的影响研究 | 第52-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 微透镜阵列电铸模芯制备 | 第56-66页 |
| 5.1 微透镜阵列模芯设计 | 第56页 |
| 5.2 微透镜阵列母模制备 | 第56-58页 |
| 5.3 微透镜阵列电铸模芯制备 | 第58-65页 |
| 5.3.1 电铸溶液配制 | 第58-59页 |
| 5.3.2 电铸工艺参数确定 | 第59-60页 |
| 5.3.3 电铸模芯检测 | 第60-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 6 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6.2 未来展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |