| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 碳纳米管的结构性质 | 第11-12页 |
| 1.3 碳纳米管的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.4 氮掺杂碳纳米管结构 | 第13-14页 |
| 1.5 碳纳米管的应用 | 第14-15页 |
| 1.6 碳纳米材料三维结构 | 第15-17页 |
| 1.7 本论文的研究内容和意义 | 第17-18页 |
| 第二章 溶胶凝胶法制备三维碳纳米材料 | 第18-32页 |
| 2.1 实验仪器与试剂 | 第18-21页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第18页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第18页 |
| 2.1.3 实验方法和实验步骤 | 第18-21页 |
| 2.2 表征方法及原理 | 第21-23页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第21-22页 |
| 2.2.2 X-射线电子能谱(EDS)表征 | 第22-23页 |
| 2.2.3 拉曼光谱仪 | 第23页 |
| 2.3 实验结果 | 第23-31页 |
| 2.3.1 碳纳米管阵列的生长 | 第23-24页 |
| 2.3.2 图形化碳纳米管阵列的生长 | 第24-25页 |
| 2.3.3 碳纳米管-多层石墨复合结构的生长 | 第25-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 浮动催化剂法制备多壁碳纳米管阵列 | 第32-51页 |
| 3.1 实验仪器与试剂 | 第32页 |
| 3.1.1 实验仪器 | 第32页 |
| 3.1.2 实验试剂 | 第32页 |
| 3.2 实验方法和操作流程 | 第32-34页 |
| 3.2.1 前驱溶液的配置 | 第33页 |
| 3.2.2 碳纳米管生长流程 | 第33-34页 |
| 3.3 碳纳米管的测试表征技术 | 第34-35页 |
| 3.3.1 X 射线光电子能谱（XPS） | 第34-35页 |
| 3.3.2 热失重分析 | 第35页 |
| 3.4 多壁碳纳米管阵列的制备工艺 | 第35-42页 |
| 3.4.1 生长温度对碳纳米管阵列的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.2 二茂铁浓度对碳纳米管阵列的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.3 前驱溶液注射速率对碳纳米管阵列的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.4 氢气占载气比例对碳纳米管阵列的影响 | 第40-41页 |
| 3.4.5 生长时间对碳纳米管阵列的影响 | 第41-42页 |
| 3.5 氮掺杂碳纳米管的制备 | 第42-50页 |
| 3.5.1 乙醇对氮掺杂碳纳米管生长的影响 | 第42-44页 |
| 3.5.2 不同浓度氮掺杂碳纳米管阵列的制备 | 第44-46页 |
| 3.5.3 氮掺杂碳纳米管的 XPS 表征 | 第46-48页 |
| 3.5.4 氮掺杂碳纳米管的拉曼表征 | 第48-49页 |
| 3.5.5 氮掺杂碳纳米管的热失重分析 | 第49-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 浮动催化剂法制备图形化碳纳米管阵列及转移 | 第51-61页 |
| 4.1 碳纳米管阵列的图形化生长 | 第51-56页 |
| 4.1.1 研究背景 | 第51页 |
| 4.1.2 碳纳米管对基底的选择性实现图形化生长 | 第51-53页 |
| 4.1.3 温度影响碳纳米管对基底的选择实现图形化碳纳米管生长 | 第53-56页 |
| 4.2 碳纳米管阵列的转移 | 第56-60页 |
| 4.2.1 研究背景 | 第56页 |
| 4.2.2 间接转移碳纳米管阵列 | 第56-58页 |
| 4.2.3 直接转移碳纳米管阵列 | 第58-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 碳纳米管及三维碳纳米结构性能研究 | 第61-67页 |
| 5.1 多壁碳纳米管及氮掺杂碳纳米管的电催化性能 | 第61-63页 |
| 5.2 碳纳米管阵列的散热性能研究 | 第63-64页 |
| 5.3 碳纳米管、石墨烯三维结构接触界面电学研究 | 第64-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 攻读硕士期间取得的成果 | 第76-77页 |