| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| 1.1 本课题研究的目的及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 硅钢 | 第9-11页 |
| 1.2.1 硅钢的发展历程 | 第9页 |
| 1.2.2 硅钢的分类和性能 | 第9-10页 |
| 1.2.3 硅钢的机理 | 第10-11页 |
| 1.2.4 硅钢的标准 | 第11页 |
| 1.3 FE-6.5WT%SI 硅钢 | 第11-18页 |
| 1.3.1 Fe-6.5wt%Si 硅钢的发展历史 | 第11-12页 |
| 1.3.2 Fe-6.5wt%Si 硅钢的特性 | 第12-14页 |
| 1.3.3 Fe-6.5wt%Si 硅钢的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.4 Fe-6.5wt%Si 硅钢的制造方法 | 第15-18页 |
| 1.4 PCVD 法制备 FE-6.5WT%SI 硅钢 | 第18-21页 |
| 1.4.1 PCVD 技术的发展历史 | 第18页 |
| 1.4.2 PCVD 技术的原理 | 第18-20页 |
| 1.4.3 PCVD 技术的特点 | 第20页 |
| 1.4.4 PCVD 技术的应用 | 第20-21页 |
| 1.5 本研究的内容和基本路线 | 第21-23页 |
| 1.5.1 本研究的内容 | 第21页 |
| 1.5.2 本研究的目的 | 第21页 |
| 1.5.3 本研究基本路线 | 第21-23页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第23-29页 |
| 2.1 实验材料 | 第23页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第23页 |
| 2.1.2 渗硅源 | 第23页 |
| 2.2 实验设备 | 第23-25页 |
| 2.3 基体材料预处理 | 第25-26页 |
| 2.4 实验流程 | 第26页 |
| 2.5 PCVD 工艺参数对薄膜的影响 | 第26-27页 |
| 2.6 性能检测 | 第27-29页 |
| 2.6.1 形貌观察 | 第27页 |
| 2.6.2 显微硬度测定 | 第27页 |
| 2.6.3 XRD 分析 | 第27-28页 |
| 2.6.4 扫描电镜及能谱分析 | 第28页 |
| 2.6.5 磁性能测定 | 第28-29页 |
| 第三章 FE-6.5WT%SI 高硅钢制备工艺研究 | 第29-42页 |
| 3.1 PCVD 沉积工艺研究 | 第29-35页 |
| 3.1.1 PCVD 沉积温度对于表面硅含量的影响 | 第31-33页 |
| 3.1.2 PCVD 沉积时间对于表面硅含量的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.3 气体流量比对于表面硅含量的影响 | 第34-35页 |
| 3.2 扩散退火工艺研究 | 第35-41页 |
| 3.2.1 扩散退火工艺的选择 | 第35-37页 |
| 3.2.2 扩散退火后表面相的组成 | 第37-38页 |
| 3.2.3 扩散退火后表面及截面的形貌 | 第38-40页 |
| 3.2.4 扩散退火后截面显微硬度分布 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 FE-6.5WT%SI 高硅钢磁性能的研究 | 第42-47页 |
| 4.1 磁性能的测试方法 | 第42页 |
| 4.2 磁性能的测试参数 | 第42页 |
| 4.3 磁性能的测试结果及讨论 | 第42-46页 |
| 4.3.1 PCVD 工艺对高硅 Fe-Si 薄膜磁性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.3.2 扩散工艺对高硅 Fe-Si 薄膜磁性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 全文总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
