中文摘要 | 第3-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
1 绪论 | 第9-24页 |
1.1.中国陶瓷文化的发展 | 第9-10页 |
1.2 陶瓷装饰 | 第10-12页 |
1.3 陶瓷颜料 | 第12-18页 |
1.3.1 颜料的呈色和颜色的表示方法 | 第12-14页 |
1.3.2 陶瓷色料呈色机理 | 第14-17页 |
1.3.3 陶瓷釉料 | 第17-18页 |
1.4 激光打标技术和激光在陶瓷应用方面研究进展 | 第18-22页 |
1.4.1 激光打标技术 | 第18-20页 |
1.4.2 激光在陶瓷应用方面研究进展 | 第20-22页 |
1.5 课题的研究意义 | 第22-23页 |
1.6 本论文研究的主要内容 | 第23-24页 |
2 激光打印颜料的理论基础和色釉料制备工艺及分析方法 | 第24-31页 |
2.1 激光打印颜料的理论基础 | 第24-26页 |
2.1.1 色料呈色的理论基础 | 第24-25页 |
2.1.2 激光在釉面打标的理论基础 | 第25-26页 |
2.2 激光在釉面打标的工艺流程及步骤 | 第26-30页 |
2.2.1 蓝色色料的制备 | 第28页 |
2.2.2 低温熔剂(釉)的制备 | 第28-29页 |
2.2.3 颜料的配制 | 第29页 |
2.2.4 激光在陶瓷釉面的打标 | 第29-30页 |
2.3 色料的分析与表征方法 | 第30-31页 |
2.3.1 外观颜色目测法和颜色参数对比法 | 第30页 |
2.3.2 热重差热分析法 | 第30页 |
2.3.3 X射线衍射仪(RXD) | 第30-31页 |
3 低温熔剂釉的制备 | 第31-34页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 制备低温釉料的主要药品和仪器 | 第31-32页 |
3.2.1 主要药品 | 第31-32页 |
3.2.2 主要仪器 | 第32页 |
3.3 自制低温铅釉 | 第32页 |
3.4 自制低温硼釉 | 第32-33页 |
3.5 购买 1100℃的透明釉 | 第33-34页 |
4 蓝色色料的制备 | 第34-58页 |
4.1 引言 | 第34页 |
4.2 制备色料的主要药品和仪器 | 第34-35页 |
4.2.1 主要药品和原料 | 第34-35页 |
4.2.2 主要仪器 | 第35页 |
4.3 钒锆蓝色料的制备 | 第35-42页 |
4.3.1 钒锆蓝色料合成温度的确定 | 第36-38页 |
4.3.2 钒锆蓝色料差热热重实验及升温程序的优化 | 第38-39页 |
4.3.3 钒锆蓝色料主要显色物质V2O5的合适含量的确定 | 第39-41页 |
4.3.4 钒锆蓝色料的XRD测试分析 | 第41-42页 |
4.4 xCoO(2-x)MgO1SnO_2天蓝色色料的合成 | 第42-49页 |
4.4.1 CoO-MgO-SnO_2蓝色料合适的煅烧温度的确定 | 第42-44页 |
4.4.2 CoO-MgO-SnO_2色料差热热重分析及升温程序的优化 | 第44-46页 |
4.4.3 xCoO-(2-x)MgO-1SnO_2色料主要原料的适宜比的确定 | 第46-48页 |
4.4.4 CoO-MgO-SnO_2系列色料的XRD测试分析 | 第48-49页 |
4.5 钴硅(CoOSiO_2)色料的制备 | 第49-55页 |
4.5.1 钴硅(CoOSiO_2)色料适宜合成温度的确定 | 第49-51页 |
4.5.2 钴硅(CoOSiO_2)原料的差热热重分析和升温程序的优化 | 第51-52页 |
4.5.3 钴硅(CoOSiO_2)色料合成原料比对呈色的影响 | 第52-54页 |
4.5.4 钴硅(CoOSiO_2)系列色料的XRD测试分析 | 第54-55页 |
4.6 铜蓝的制备 | 第55-56页 |
4.7 本章小结 | 第56-58页 |
5 自制陶瓷颜料在激光釉面打标的应用 | 第58-64页 |
5.1 激光参数对激光打标的影响 | 第58-61页 |
5.1.1 激光功率和频率对打标的影响 | 第58-60页 |
5.1.2 激光扫面速度对打标影响 | 第60-61页 |
5.2 色料颜色和激光打标色彩的联系 | 第61-62页 |
5.3 不同烧成温度的釉料对激光打标的影响 | 第62-63页 |
5.4 本章小结 | 第63-64页 |
6 结论与展望 | 第64-65页 |
6.1 结论 | 第64页 |
6.2 展望 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
附录 | 第68页 |
A 作者在攻读学位论文期间发表的论文目录 | 第68页 |