摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 引言 | 第10-12页 |
1.2 光谱选择性吸收涂层的研究进展与制备方法 | 第12-15页 |
1.2.1 电镀法 | 第12页 |
1.2.2 涂料法 | 第12-13页 |
1.2.3 物理气相沉积法 | 第13页 |
1.2.4 化学气相沉积法 | 第13-14页 |
1.2.5 溶胶-凝胶法 | 第14页 |
1.2.6 阳极氧化法 | 第14-15页 |
1.3 热辐射理论基础 | 第15-16页 |
1.3.1 黑体 | 第15页 |
1.3.2 普朗克定律 | 第15页 |
1.3.3 维恩位移定律 | 第15页 |
1.3.4 斯蒂芬一波耳兹曼定律 | 第15-16页 |
1.4 吸收涂层的主要形成机制 | 第16-17页 |
1.5 课题研究意义及主要内容 | 第17-19页 |
1.5.1 本课题研究的意义 | 第17-18页 |
1.5.2 本课题研究内容 | 第18-19页 |
第2章 实验方法 | 第19-25页 |
2.1 实验材料 | 第19-21页 |
2.1.1 铝合金材料 | 第19页 |
2.1.2 实验试剂 | 第19页 |
2.1.3 实验装置 | 第19-21页 |
2.2 AAO光谱选择性吸收涂层的制备 | 第21-23页 |
2.2.1 实验溶液的配制 | 第21-22页 |
2.2.2 工艺流程图 | 第22-23页 |
2.3 测试方法 | 第23-25页 |
2.3.1 光子晶体氧化膜层的组成和结构分析 | 第23页 |
2.3.2 光子晶体层氧化膜的反射光谱分析 | 第23页 |
2.3.3 光谱吸收涂层吸收率、发射率测试 | 第23-24页 |
2.3.4 光谱吸收涂层沉积物物相分析 | 第24页 |
2.3.5 光谱吸收涂层沉积物微观形貌及元素分布 | 第24页 |
2.3.6 光谱吸收涂层电化学测试 | 第24页 |
2.3.7 光谱吸收涂层耐热稳定性测试 | 第24-25页 |
第3章 AAO光子晶体氧化膜层组织、结构研究 | 第25-36页 |
3.1 前言 | 第25-26页 |
3.2 氧化电压时间曲线 | 第26-27页 |
3.3 AAO膜层微观形貌分析 | 第27-30页 |
3.4 AAO膜层宏观形貌分析 | 第30页 |
3.5 AAO膜层反射光谱曲线 | 第30-32页 |
3.6 氧化膜层元素组成及物相分析 | 第32-34页 |
3.7 本章小结 | 第34-36页 |
第4章 AAO光子晶体禁带位置的探究及吸收层的电沉积 | 第36-61页 |
4.1 前言 | 第36页 |
4.2 光子禁带位置的探究 | 第36-43页 |
4.2.1 调整因素及红外范围 | 第36-37页 |
4.2.2 实验方案设计 | 第37-39页 |
4.2.3 回归模型分析 | 第39-40页 |
4.2.4 线性实验模型的响应面分析 | 第40-43页 |
4.3 吸收层的电沉积及机理分析 | 第43-59页 |
4.3.1 吸收层的电沉积 | 第43-50页 |
4.3.2 吸收层微观表面形貌 | 第50-51页 |
4.3.3 吸收层元素分布及物相组成分析 | 第51-56页 |
4.3.4 吸收层沉积机理分析 | 第56-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-61页 |
第5章 光谱选择性吸收涂层的吸收机理及性能研究 | 第61-85页 |
5.1 涂层的吸收机理 | 第61-62页 |
5.2 沉积电压、时间、温度、对吸收涂层吸收率、发射率的影响 | 第62-67页 |
5.2.1 紫外-可见-近红外反射光谱分析 | 第63-65页 |
5.2.2 红外反射波谱分析 | 第65-67页 |
5.3 沉积后涂层表面形貌及 3D轮廓 | 第67-71页 |
5.3.1 沉积后涂层光学表面形貌 | 第67-69页 |
5.3.2 沉积后涂层表面 3D轮廓 | 第69-71页 |
5.4 AAO光谱选择性吸收涂层电化学分析 | 第71-80页 |
5.4.1 AAO光谱选择性吸收涂层动电位扫描分析 | 第71-74页 |
5.4.2 AAO光谱选择性吸收涂层交流阻抗分析 | 第74-80页 |
5.5 高品质因子吸收涂层沉积物XRD分析 | 第80-81页 |
5.6 高品质因子吸收涂层热稳定性分析 | 第81-83页 |
5.7 本章小结 | 第83-85页 |
第6章 结论 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-92页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第92-93页 |
致谢 | 第93-94页 |