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直流磁控溅射中荷电粒子分布的模拟研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-22页
    1.1 磁控溅射中的气体放电第10-11页
    1.2 平面磁控溅射的发展第11-12页
    1.3 磁控溅射放电等离子体模拟研究进展第12-19页
        1.3.1 概况第12-14页
        1.3.2 动力学模型第14-15页
        1.3.3 粒子模型第15-17页
        1.3.4 流体模型第17-18页
        1.3.5 混合模型第18-19页
        1.3.6 简化模型第19页
    1.4 课题研究的目的和意义第19页
    1.5 本章小结第19-22页
第2章 矩形靶直道区域的磁场模拟第22-36页
    2.1 磁控溅射相关的电磁场理论第22-27页
        2.1.1 麦克斯韦电磁场理论第22-23页
        2.1.2 边界条件第23-25页
        2.1.3 有限元及有限差分法第25-27页
    2.2 Comsol软件介绍第27-28页
    2.3 磁场的模拟计算第28-33页
    2.4 磁场数据的提取第33-34页
    2.5 本章小结第34-36页
第3章 等离子体粒子模拟方法及数值求解第36-48页
    3.1 等离子体粒子模拟方法第36页
    3.2 等离子体粒子模拟方法的基本思路第36-37页
    3.3 等离子体粒子模拟方法的计算流程和常用算法第37-47页
        3.3.1 等离子体模拟方法的基本流程第37页
        3.3.2 计算粒子形状的插值方法和线性加权方法第37-39页
        3.3.3 Newton-Lorentz运动方程的求解第39-40页
        3.3.4 静电模型以及边界条件第40-42页
        3.3.5 电势的计算第42页
        3.3.6 电磁模型中Maxwell方程的求解第42-44页
        3.3.7 电磁模型中的电流参量第44-45页
        3.3.8 MCC方法第45-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第4章 矩形靶直道区域荷电粒子分布模拟第48-60页
    4.1 OOPIC程序简介第48-50页
        4.1.1 OOPIC程序的组成部分第48-49页
        4.1.2 OOPIC程序运行流程第49-50页
    4.2 荷电粒子分布模拟第50-59页
        4.2.1 初始参数设置第50-58页
        4.2.2 模拟结果第58-59页
    4.3 本章小结第59-60页
第5章 圆平面靶系统的荷电粒子分布模拟第60-76页
    5.1 磁场模拟第60-64页
    5.2 荷电粒子分布模拟第64-67页
    5.3 磁场强度和阴极电压对靶材刻蚀形貌的影响第67-74页
        5.3.1 磁场强度对靶材刻蚀形貌的影响第67-71页
        5.3.2 阴极电压对靶材刻蚀形貌的影响第71-74页
    5.4 本章小结第74-76页
第6章 结论与展望第76-78页
    6.1 结论第76页
    6.2 展望第76-78页
参考文献第78-84页
致谢第84页

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