摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 磁控溅射中的气体放电 | 第10-11页 |
1.2 平面磁控溅射的发展 | 第11-12页 |
1.3 磁控溅射放电等离子体模拟研究进展 | 第12-19页 |
1.3.1 概况 | 第12-14页 |
1.3.2 动力学模型 | 第14-15页 |
1.3.3 粒子模型 | 第15-17页 |
1.3.4 流体模型 | 第17-18页 |
1.3.5 混合模型 | 第18-19页 |
1.3.6 简化模型 | 第19页 |
1.4 课题研究的目的和意义 | 第19页 |
1.5 本章小结 | 第19-22页 |
第2章 矩形靶直道区域的磁场模拟 | 第22-36页 |
2.1 磁控溅射相关的电磁场理论 | 第22-27页 |
2.1.1 麦克斯韦电磁场理论 | 第22-23页 |
2.1.2 边界条件 | 第23-25页 |
2.1.3 有限元及有限差分法 | 第25-27页 |
2.2 Comsol软件介绍 | 第27-28页 |
2.3 磁场的模拟计算 | 第28-33页 |
2.4 磁场数据的提取 | 第33-34页 |
2.5 本章小结 | 第34-36页 |
第3章 等离子体粒子模拟方法及数值求解 | 第36-48页 |
3.1 等离子体粒子模拟方法 | 第36页 |
3.2 等离子体粒子模拟方法的基本思路 | 第36-37页 |
3.3 等离子体粒子模拟方法的计算流程和常用算法 | 第37-47页 |
3.3.1 等离子体模拟方法的基本流程 | 第37页 |
3.3.2 计算粒子形状的插值方法和线性加权方法 | 第37-39页 |
3.3.3 Newton-Lorentz运动方程的求解 | 第39-40页 |
3.3.4 静电模型以及边界条件 | 第40-42页 |
3.3.5 电势的计算 | 第42页 |
3.3.6 电磁模型中Maxwell方程的求解 | 第42-44页 |
3.3.7 电磁模型中的电流参量 | 第44-45页 |
3.3.8 MCC方法 | 第45-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-48页 |
第4章 矩形靶直道区域荷电粒子分布模拟 | 第48-60页 |
4.1 OOPIC程序简介 | 第48-50页 |
4.1.1 OOPIC程序的组成部分 | 第48-49页 |
4.1.2 OOPIC程序运行流程 | 第49-50页 |
4.2 荷电粒子分布模拟 | 第50-59页 |
4.2.1 初始参数设置 | 第50-58页 |
4.2.2 模拟结果 | 第58-59页 |
4.3 本章小结 | 第59-60页 |
第5章 圆平面靶系统的荷电粒子分布模拟 | 第60-76页 |
5.1 磁场模拟 | 第60-64页 |
5.2 荷电粒子分布模拟 | 第64-67页 |
5.3 磁场强度和阴极电压对靶材刻蚀形貌的影响 | 第67-74页 |
5.3.1 磁场强度对靶材刻蚀形貌的影响 | 第67-71页 |
5.3.2 阴极电压对靶材刻蚀形貌的影响 | 第71-74页 |
5.4 本章小结 | 第74-76页 |
第6章 结论与展望 | 第76-78页 |
6.1 结论 | 第76页 |
6.2 展望 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
致谢 | 第84页 |