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Ga2O3薄膜的磁控溅射制备及其性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-24页
    1.1 关于透明导电氧化物薄膜的介绍第11页
    1.2 氧化镓的晶体结构和性质第11-13页
        1.2.1 β-Ga_2O_3的结构第12-13页
        1.2.2 β-Ga_2O_3的电学和光学性质第13页
    1.3 Ga_2O_3材料的应用进展第13-15页
        1.3.1 紫外探测器第13-14页
        1.3.2 薄膜电致发光器件第14页
        1.3.3 气敏传感器第14-15页
    1.4 氧化镓的研究进展第15-18页
    1.5 本论文的研究目的和意义第18-20页
    参考文献第20-24页
第二章 薄膜制备方法和表征技术第24-36页
    2.1 薄膜制备技术第24-26页
        2.1.1 溶胶凝胶法第24-25页
        2.1.2 化学气相沉积法第25页
        2.1.3 脉冲激光沉积法第25-26页
    2.2 薄膜生长原理第26-27页
        2.2.1 薄膜形核生长简介第26-27页
        2.2.2 形成薄膜的三种模式第27页
    2.3 磁控溅射技术第27-29页
        2.3.1 磁控溅射基本原理第27-28页
        2.3.2 溅射过程第28页
        2.3.3 磁控溅射的优点第28页
        2.3.4 本文所用射频磁控溅射设备介绍第28-29页
    2.4 材料表征技术介绍第29-33页
        2.4.1 X射线衍射法(XRD)第29-30页
        2.4.2 扫描电子显微镜(SEM)第30-31页
        2.4.3 紫外吸收谱(UV-Vis Spectra)第31-32页
        2.4.4 光致发光谱(Photoluminescence Spectra)第32-33页
    2.5 本章小结第33-34页
    参考文献第34-36页
第三章 Ga203薄膜的制备和表征第36-51页
    3.1 概论第36页
    3.2 实验室磁控溅射法生长β-Ga_2O_3薄膜第36-37页
        3.2.1 薄膜制备的前期准备第36-37页
        3.2.2 磁控溅射法制备薄膜的实验过程第37页
    3.3 影响磁控溅射法制备β-Ga_2O_3薄膜及其结构的因素研究第37-48页
        3.3.1 关于溅射功率的研究第38-39页
        3.3.2 关于溅射气压的研究第39-45页
        3.3.3 沉积温度对薄膜结构的影响第45-48页
    3.4 本章小结第48-49页
    参考文献第49-51页
第四章 热处理温度对Ga_2O_3薄膜微观结构、结晶性和光学性能的影响第51-65页
    4.1 热处理温度对Ga_2O_3薄膜结晶性能的影响第51-53页
    4.2 热处理温度对Ga_2O_3薄膜表面形貌的影响第53-56页
    4.3 热处理温度对Ga_2O_3薄膜光学性能的影响第56-62页
    4.4 本章小结第62-63页
    参考文献第63-65页
第五章 氧化镓薄膜电学性能的研究第65-76页
    5.1 概述第65-66页
    5.2 氮化镓薄膜的制备及表征第66-68页
        5.2.1 材料制备第66页
        5.2.2 材料表征方法第66-68页
    5.3 氩气气氛(0.1 Pa)下制备氧化镓薄膜的光电性能第68-71页
        5.3.1 表面形貌分析第68页
        5.3.2 I-V特性分析第68-70页
        5.3.3 光电响应曲线分析第70-71页
    5.4 氧气气氛(1 Pa)下制备氧化镓薄膜的光电性能第71-73页
        5.4.1 表面形貌分析第71页
        5.4.2 I-V特性分析第71-73页
    5.5 本章小结第73-74页
    参考文献第74-76页
第六章 镀金后氧化镓薄膜表面等离激元现象的研究第76-87页
    6.1 概论第76页
    6.2 磁控溅射法生长β-Ga_2O_3薄膜第76-77页
        6.2.1 β-Ga_2O_3薄膜的制备第76页
        6.2.2 β-Ga_2O_3薄膜表面镀金与退火第76-77页
        6.2.3 样品表征与分析第77页
    6.3 结果讨论与分析第77-84页
        6.3.1 未镀金前薄膜的表面形貌分析第77-78页
        6.3.2 不同厚度金薄膜的计算第78页
        6.3.3 镀金薄膜退火处理前的表面形貌分析第78-79页
        6.3.4 退火后镀金薄膜的表面形貌分析第79-82页
        6.3.5 样品的紫外吸收谱分析第82-84页
    6.4 本章小结第84-85页
    参考文献第85-87页
第七章 结论与展望第87-89页
    7.1 结论第87-88页
    7.2 展望第88-89页
致谢第89-90页
攻读学位期间发表的学术论文目录第90页

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