| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 关于透明导电氧化物薄膜的介绍 | 第11页 |
| 1.2 氧化镓的晶体结构和性质 | 第11-13页 |
| 1.2.1 β-Ga_2O_3的结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 β-Ga_2O_3的电学和光学性质 | 第13页 |
| 1.3 Ga_2O_3材料的应用进展 | 第13-15页 |
| 1.3.1 紫外探测器 | 第13-14页 |
| 1.3.2 薄膜电致发光器件 | 第14页 |
| 1.3.3 气敏传感器 | 第14-15页 |
| 1.4 氧化镓的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.5 本论文的研究目的和意义 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 薄膜制备方法和表征技术 | 第24-36页 |
| 2.1 薄膜制备技术 | 第24-26页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法 | 第24-25页 |
| 2.1.2 化学气相沉积法 | 第25页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积法 | 第25-26页 |
| 2.2 薄膜生长原理 | 第26-27页 |
| 2.2.1 薄膜形核生长简介 | 第26-27页 |
| 2.2.2 形成薄膜的三种模式 | 第27页 |
| 2.3 磁控溅射技术 | 第27-29页 |
| 2.3.1 磁控溅射基本原理 | 第27-28页 |
| 2.3.2 溅射过程 | 第28页 |
| 2.3.3 磁控溅射的优点 | 第28页 |
| 2.3.4 本文所用射频磁控溅射设备介绍 | 第28-29页 |
| 2.4 材料表征技术介绍 | 第29-33页 |
| 2.4.1 X射线衍射法(XRD) | 第29-30页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| 2.4.3 紫外吸收谱(UV-Vis Spectra) | 第31-32页 |
| 2.4.4 光致发光谱(Photoluminescence Spectra) | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 Ga203薄膜的制备和表征 | 第36-51页 |
| 3.1 概论 | 第36页 |
| 3.2 实验室磁控溅射法生长β-Ga_2O_3薄膜 | 第36-37页 |
| 3.2.1 薄膜制备的前期准备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 磁控溅射法制备薄膜的实验过程 | 第37页 |
| 3.3 影响磁控溅射法制备β-Ga_2O_3薄膜及其结构的因素研究 | 第37-48页 |
| 3.3.1 关于溅射功率的研究 | 第38-39页 |
| 3.3.2 关于溅射气压的研究 | 第39-45页 |
| 3.3.3 沉积温度对薄膜结构的影响 | 第45-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 热处理温度对Ga_2O_3薄膜微观结构、结晶性和光学性能的影响 | 第51-65页 |
| 4.1 热处理温度对Ga_2O_3薄膜结晶性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.2 热处理温度对Ga_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第53-56页 |
| 4.3 热处理温度对Ga_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第56-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第五章 氧化镓薄膜电学性能的研究 | 第65-76页 |
| 5.1 概述 | 第65-66页 |
| 5.2 氮化镓薄膜的制备及表征 | 第66-68页 |
| 5.2.1 材料制备 | 第66页 |
| 5.2.2 材料表征方法 | 第66-68页 |
| 5.3 氩气气氛(0.1 Pa)下制备氧化镓薄膜的光电性能 | 第68-71页 |
| 5.3.1 表面形貌分析 | 第68页 |
| 5.3.2 I-V特性分析 | 第68-70页 |
| 5.3.3 光电响应曲线分析 | 第70-71页 |
| 5.4 氧气气氛(1 Pa)下制备氧化镓薄膜的光电性能 | 第71-73页 |
| 5.4.1 表面形貌分析 | 第71页 |
| 5.4.2 I-V特性分析 | 第71-73页 |
| 5.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第六章 镀金后氧化镓薄膜表面等离激元现象的研究 | 第76-87页 |
| 6.1 概论 | 第76页 |
| 6.2 磁控溅射法生长β-Ga_2O_3薄膜 | 第76-77页 |
| 6.2.1 β-Ga_2O_3薄膜的制备 | 第76页 |
| 6.2.2 β-Ga_2O_3薄膜表面镀金与退火 | 第76-77页 |
| 6.2.3 样品表征与分析 | 第77页 |
| 6.3 结果讨论与分析 | 第77-84页 |
| 6.3.1 未镀金前薄膜的表面形貌分析 | 第77-78页 |
| 6.3.2 不同厚度金薄膜的计算 | 第78页 |
| 6.3.3 镀金薄膜退火处理前的表面形貌分析 | 第78-79页 |
| 6.3.4 退火后镀金薄膜的表面形貌分析 | 第79-82页 |
| 6.3.5 样品的紫外吸收谱分析 | 第82-84页 |
| 6.4 本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 第七章 结论与展望 | 第87-89页 |
| 7.1 结论 | 第87-88页 |
| 7.2 展望 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第90页 |
