| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 掺杂金属氧化物纳米结构材料 | 第9-15页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜的制备技术 | 第15-17页 |
| 1.3 掺杂ZnO材料的三阶非线性光学特性的研究和应用 | 第17-20页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第20-21页 |
| 2 三阶非线性光学效应测试和理论推导 | 第21-29页 |
| 2.1 三阶非线性效应 | 第21-22页 |
| 2.2 Z扫描技术 | 第22-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 AGZO纳米阵列非线性光学效应增强 | 第29-41页 |
| 3.1 AGZO纳米阵列和薄膜的制备及测试 | 第29-31页 |
| 3.2 AGZO纳米阵列和薄膜光学特性的测量 | 第31-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 掺杂浓度对AGZO纳米阵列光学性质的影响 | 第41-54页 |
| 4.1 AGZO纳米阵的制备和测试 | 第41-42页 |
| 4.2 AGZO纳米阵列的线性和非线性特性测量 | 第42-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 5 总结与展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第65页 |