中文摘要 | 第5-7页 |
英文摘要 | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 卷曲纳米技术 | 第13-17页 |
1.3 卷曲微管的应用 | 第17-24页 |
1.3.1 光学谐振腔 | 第17-19页 |
1.3.2 单分子检测 | 第19-21页 |
1.3.3 微马达 | 第21-22页 |
1.3.4 生物医学应用 | 第22-24页 |
1.4 表面等离子体概述 | 第24-29页 |
1.4.1 表面等离子体的性质 | 第24-25页 |
1.4.2 表面等离子体的激发 | 第25-28页 |
1.4.3 局域化表面等离子体共振的基本性质 | 第28-29页 |
1.5 本论文主要研究工作 | 第29-32页 |
第二章 实验设备介绍 | 第32-40页 |
2.1 电子束蒸发仪(EBM) | 第32-33页 |
2.1.1 电子枪加热靶材的工作原理 | 第32-33页 |
2.1.2 电子束蒸发的工艺优点 | 第33页 |
2.2 原子层沉积(ALD) | 第33-35页 |
2.2.1 原子层沉积的工艺优点 | 第34-35页 |
2.3 超临界干燥(CPD) | 第35-37页 |
2.3.1 超临界干燥的工作原理 | 第36页 |
2.3.2 超临界干燥的实验步骤 | 第36-37页 |
2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第37-38页 |
2.4.1 扫描电子显微镜的原理 | 第37-38页 |
2.4.2 扫描电子显微镜的特点 | 第38页 |
2.5 原子力显微镜(AFM) | 第38-40页 |
2.5.1 原子力显微镜的优点 | 第38-40页 |
第三章 卷曲微管的制备与表征 | 第40-57页 |
3.1 图形化光刻胶牺牲层的制备 | 第40-41页 |
3.1.1 图形化光刻胶牺牲层的光学表征 | 第41页 |
3.2 纳米薄膜的制备 | 第41-44页 |
3.3 卷曲微管制备步骤及示意图 | 第44-46页 |
3.4 纳米薄膜内应力分析 | 第46-48页 |
3.5 薄膜卷曲方向的控制 | 第48-50页 |
3.6 卷曲微管的制备与形貌表征 | 第50-53页 |
3.7 影响卷曲微管的直径的因素 | 第53-56页 |
3.8 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 卷曲微管结构的表面增强拉曼散射强度分布研究 | 第57-74页 |
4.1 拉曼散射的基本原理 | 第57-59页 |
4.2 拉曼散射的经典理论 | 第59-61页 |
4.3 拉曼增强因子EF | 第61-62页 |
4.4 卷曲微管结构的表面增强拉曼散射效应 | 第62-69页 |
4.4.1 SERS样品的制备 | 第62-63页 |
4.4.2 实验结果讨论 | 第63-69页 |
4.5 时域有限差分法(Finite-Difference Time-Domain,FDTD) | 第69-72页 |
4.5.1 金属材料的色散模型 | 第69-71页 |
4.5.2 边界条件 | 第71页 |
4.5.3 卷曲微管表面电磁场模拟结果 | 第71-72页 |
4.6 本章小结 | 第72-74页 |
第五章 卷曲微管结构的表面增强拉曼散射强度的调控研究 | 第74-93页 |
5.1 双曲超材料 | 第74-75页 |
5.2 超材料中电磁波的传播 | 第75-78页 |
5.3 双曲超材料的色散特性 | 第78-81页 |
5.4 卷曲微管的制备与表征 | 第81-83页 |
5.5 卷曲微管结构的表面增强拉曼散射及其强度调控 | 第83-91页 |
5.6 本章小结 | 第91-93页 |
第六章 论文总结与展望 | 第93-95页 |
致谢 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-106页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第106-107页 |
缩写与简称 | 第107页 |