| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1. 绪论 | 第14-21页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 钕铁硼磁性材料的腐蚀与防护 | 第15-16页 |
| 1.3 在钕铁硼磁体上沉积铝的方式 | 第16-17页 |
| 1.4 室温离子液体的发展 | 第17-18页 |
| 1.5 在EMIC-AlCl_3中电沉积铝薄膜的研究发展 | 第18-19页 |
| 1.6 本文研究目的 | 第19-21页 |
| 2. 实验内容及测试方法 | 第21-26页 |
| 2.1 实验内容 | 第21-22页 |
| 2.2 测试方法和仪器 | 第22-26页 |
| 2.2.1 测试方法 | 第22-24页 |
| 2.2.2 耐蚀性测试 | 第24-25页 |
| 2.2.3 表面及成分分析 | 第25-26页 |
| 3. NdFeB在AlCl_3-EMIC离子液体中的初期腐蚀行为研究 | 第26-32页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第26-28页 |
| 3.2.1 钕铁硼在离子液体中的腐蚀行为 | 第26-28页 |
| 3.3 腐蚀表面及产物分析 | 第28-31页 |
| 3.4 结论 | 第31-32页 |
| 4. 钕铁硼表面铝膜恒电位沉积及性能研究 | 第32-45页 |
| 4.1 引言 | 第32页 |
| 4.2 实验结果分析 | 第32-43页 |
| 4.2.1 特殊前处理 | 第32-33页 |
| 4.2.2 钕铁硼表面恒电位沉积铝膜机理研究 | 第33-34页 |
| 4.2.3 不同沉积电位下的暂态曲线及分析 | 第34-36页 |
| 4.2.4 不同电位下的离子扩散系数及分析 | 第36-39页 |
| 4.2.5 铝薄膜成分及表面分析 | 第39-42页 |
| 4.2.6 耐蚀性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.3 结论 | 第43-45页 |
| 5. 脉冲电沉积 | 第45-57页 |
| 5.1 引言 | 第45页 |
| 5.2 实验结果与讨论 | 第45-56页 |
| 5.2.1 脉冲电沉积与恒电位沉积比较 | 第45-46页 |
| 5.2.2 脉冲电沉积中不同频率的影响 | 第46-49页 |
| 5.2.3 不同占空比的影响 | 第49-53页 |
| 5.2.4 不同添加剂含量的影响 | 第53-56页 |
| 5.3.小结 | 第56-57页 |
| 6. 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 作者简历 | 第62页 |