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压电陶瓷表面化学镀Ni-Cu-P合金镀层及其性能研究

摘要第8-10页
Abstract第10-11页
第一章 绪论第12-20页
    1.1 化学镀第12-16页
        1.1.1 化学镀概述第12-13页
        1.1.2 化学镀Ni(P)的研究发展第13-15页
        1.1.3 化学镀Ni-Cu-P合金的研究发展第15-16页
    1.2 压电陶瓷表面化学镀的研究发展第16-18页
    1.3 本文的选题意义及主要研究内容第18-20页
第二章 实验设备和实验方法第20-28页
    2.1 实验原料第20-21页
        2.1.1 基体材料第20页
        2.1.2 化学试剂第20-21页
    2.2 实验设备、仪器第21页
    2.3 实验方法第21-24页
        2.3.1 化学镀前处理工艺第21-23页
        2.3.2 化学镀覆工艺第23-24页
            2.3.2.1 化学镀镀液的配制第23页
            2.3.2.2 施镀第23-24页
    2.4 镀层性能测试与表征第24-28页
        2.4.1 镀层形貌及镀层成分测定第24页
        2.4.2 沉积速度测定第24-25页
        2.4.3 镀层物相分析第25页
        2.4.4 电化学测试第25页
        2.4.5 镀层导电性测试第25页
        2.4.6 镀层硬度测试第25-26页
        2.4.7 镀层与基体结合力的测试第26-28页
第三章 化学镀Ni-P合金工艺优化第28-42页
    3.1 化学镀Ni-P合金的工艺配方、工艺条件第28页
    3.2 粗化液对镀速和镀层性能的影响第28-31页
        3.2.1 粗化液对沉积速度的影响第29页
        3.2.2 对镀层形貌的影响第29-30页
        3.2.3 对镀层耐腐蚀性的影响第30-31页
    3.3 酸性镀液和碱性镀液对镀层性能的影响第31-34页
        3.3.1 对镀层表面形貌及成分的影响第31-33页
        3.3.2 对镀层耐腐蚀性的影响第33-34页
    3.4 添加剂种类对镀速和镀层性能的影响第34-39页
        3.4.1 对沉积速度的影响第34-36页
        3.4.2 对镀层表观形貌的影响第36-37页
        3.4.3 最佳浓度添加剂下镀层形貌第37-38页
        3.4.4 最佳浓度添加剂下镀层耐腐蚀性第38-39页
    3.5 本章小结第39-42页
第四章 化学镀Ni-Cu-P合金工艺及镀层性能研究第42-64页
    4.1 化学镀Ni-Cu-P镀液配方及工艺条件的研究第42-44页
    4.2 工艺条件对镀速及镀层性能的影响第44-50页
        4.2.1 pH对镀速及镀层性能的影响第44-47页
        4.2.2 温度对镀速及镀层性能的影响第47-50页
    4.3 镀液组成对镀速及镀层性能的影响第50-62页
        4.3.1 NiSO_4·6H_2O浓度对镀速及镀层性能的影响第50-52页
        4.3.2 CuSO_4·5H_2O浓度对镀速及镀层性能的影响第52-56页
        4.3.3 NaH_2PO_2·H_2O浓度对镀速及镀层性能的影响第56-59页
        4.3.4 C_6H_5 Na_3O_7·2H_2O对镀速及镀层性能的影响第59-62页
    4.4 本章小结第62-64页
第五章 化学镀Ni-P与化学镀Ni-Cu-P合金镀层性能的对比第64-72页
    5.1 镀层的表面形貌及成分分析第64-66页
    5.2 镀层的物相结构第66-67页
    5.3 镀层的耐腐蚀性第67-68页
    5.4 镀层的导电性第68-69页
    5.5 镀层的硬度第69-70页
    5.6 本章小结第70-72页
第六章 结论第72-74页
参考文献第74-78页
致谢第78-80页
附录第80页

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