| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 符号对照表 | 第9-10页 |
| 缩略语对照表 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 光学分子成像 | 第13-14页 |
| 1.2 荧光分子成像 | 第14-16页 |
| 1.3 自体荧光产生机理 | 第16-18页 |
| 1.4 自体荧光去除方法简介 | 第18-19页 |
| 1.4.1 自体荧光去除的目的以及意义 | 第18页 |
| 1.4.2 自体荧光去除方法 | 第18-19页 |
| 1.5 本文的主要工作以及章节安排 | 第19-21页 |
| 第二章 基于主成分分析的自体荧光去除 | 第21-29页 |
| 2.1 主成分分析的基本思想 | 第22-23页 |
| 2.2 主成分分析的估计原理 | 第23-24页 |
| 2.3 主成分分析方法的计算过程 | 第24页 |
| 2.4 基于主成分分析自体荧光去除结果以及分析 | 第24-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 基于稀疏非负矩阵分解的自体荧光去除 | 第29-39页 |
| 3.1 非负矩阵分解的基本思想 | 第29-30页 |
| 3.2 稀疏非负矩阵分解的基本原理 | 第30页 |
| 3.3 稀疏非负矩阵分解计算步骤 | 第30-35页 |
| 3.4 基于稀疏非负矩阵分解自体荧光去除结果以及分析 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-39页 |
| 第四章 基于稀疏约束正则化非负矩阵分解的自体荧光去除 | 第39-45页 |
| 4.1 正则化基本思想 | 第39页 |
| 4.2 基于稀疏约束的正则化非负矩阵分解计算步骤 | 第39-41页 |
| 4.3 基于稀疏约束正则化非负矩阵分解自体荧光去除结果以及分析 | 第41-43页 |
| 4.4 三种方法进行自体荧光去除结果对比分析 | 第43-44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 基于三种方法的在体实验数据对比研究 | 第45-55页 |
| 5.1 基于三种方法的在体实验数据1对比研究 | 第45-50页 |
| 5.2 基于三种方法的在体实验数据2对比研究 | 第50-53页 |
| 5.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 作者简介 | 第65-66页 |
