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高保真印刷防伪设计中的微镜阵列技术

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-16页
   ·研究背景及意义第7-8页
   ·国内外研究现状第8-14页
     ·国外研究现状第8-13页
     ·国内研究现状第13-14页
   ·本文研究内容第14-15页
   ·论文结构第15-16页
第二章 微镜像元成像原理与研究进展第16-24页
   ·微镜像元反射光线方程第16-19页
   ·微镜像元成像方程第19-20页
   ·微镜像元模型研究进展第20-22页
     ·RGB印刷微镜模型第21页
     ·CMYK印刷微镜模型第21-22页
   ·本章小结第22-24页
第三章 微镜阵列光变图像第24-30页
   ·掩模的设计第24-25页
   ·双通道光变图像第25-28页
   ·光学效果第28-29页
   ·本章小结第29-30页
第四章 微镜像元模型和防伪标识第30-42页
   ·双余弦曲面结构微镜像元模型第30-35页
     ·微镜像元模拟与分析第31-33页
     ·微镜阵列防伪标识模拟与分析第33-35页
   ·高次级数曲面结构微镜像元模型第35-40页
     ·六次幂微镜像元模型第35-36页
     ·四次幂微镜像元模型第36-37页
     ·微镜像元模拟与分析第37-39页
     ·微镜阵列防伪标识模拟与分析第39-40页
   ·防伪标识制造流程第40-41页
   ·本章小结第41-42页
第五章 结论与展望第42-44页
   ·主要结论第42-43页
   ·展望第43-44页
致谢第44-45页
参考文献第45-47页
附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文第47页

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