| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-31页 |
| ·微系统的简介 | 第9-11页 |
| ·现代微细加工技术 | 第11-19页 |
| ·微细加工技术分类 | 第12页 |
| ·硅表面加工技术 | 第12-13页 |
| ·体硅微机械加工技术 | 第13-14页 |
| ·LIGA技术 | 第14-16页 |
| ·微接触印刷技术 | 第16-17页 |
| ·化学湿印章技术 | 第17-19页 |
| ·电化学相关的微细加工技术 | 第19-23页 |
| ·3D电化学微加工 | 第19-21页 |
| ·扫描探针显微技术 | 第21-22页 |
| ·EFAB技术 | 第22-23页 |
| ·新型电化学微加工技术简介 | 第23-29页 |
| ·制作复杂三维微加工结构方法的局限性 | 第23-24页 |
| ·电化学湿印章技术 | 第24-26页 |
| ·约束刻蚀剂层技术(CELT)简介 | 第26-29页 |
| ·本论文工作的主要内容和目标 | 第29-31页 |
| 第2章 实验部分 | 第31-49页 |
| ·实验材料与试剂 | 第31-33页 |
| ·实验所用化学试剂 | 第31-32页 |
| ·被加工材料前处理过程 | 第32页 |
| ·其他实验装置以及实验材料 | 第32-33页 |
| ·模板电极（工作电极）的制备 | 第33-39页 |
| ·Pt微圆柱电极 | 第33-34页 |
| ·PMMA/Ti/Pt模板电极 | 第34-37页 |
| ·Pt微圆柱电极与PMMA/Ti/Pt模板电极的比较 | 第37-38页 |
| ·具有三维微阵列结构的琼脂糖凝胶模板 | 第38-39页 |
| ·电解池 | 第39-41页 |
| ·超精密电化学微/钠米制造系统 | 第41-44页 |
| ·仪器的组成及其性能 | 第41-43页 |
| ·电化学微加工实验的操作步骤 | 第43-44页 |
| ·砷化镓表面进行化学镀镍过程 | 第44-45页 |
| ·微结构表征方法简介 | 第45-49页 |
| ·金相显微镜 | 第45页 |
| ·原子力显微镜 | 第45-47页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第47-49页 |
| 第3章 砷化镓约束刻蚀机理的研究和体系优化 | 第49-63页 |
| ·前言 | 第49-50页 |
| ·砷化镓刻蚀体系的筛选 | 第50-51页 |
| ·HNO_3/NaOH刻蚀体系对砷化镓刻蚀动力学研究 | 第51-54页 |
| ·刻蚀速率的腐蚀失重法测定 | 第51-53页 |
| ·塔菲尔曲线的测量及电化学腐蚀速率推算 | 第53-54页 |
| ·HNO_3相匹配的捕捉剂筛选方案 | 第54页 |
| ·利用HNO_3/NaOH体系对砷化镓进行约束刻蚀加工的原理 | 第54页 |
| ·Br 2/L-胱氨酸体系对砷化镓刻蚀动力学研究 | 第54-56页 |
| ·Br 2相匹配的捕捉剂筛选方案 | 第54-56页 |
| ·利用Br 2/L-胱氨酸体系对砷化镓进行约束刻蚀加工的原理 | 第56页 |
| ·利用Pt微圆柱电极对刻蚀体系的优化 | 第56-63页 |
| ·选择HNO_3/NaOH刻蚀体系进行复制加工实验 | 第57-60页 |
| ·选择Br 2/L-胱氨酸刻蚀体系进行复制加工实验 | 第60-63页 |
| 第4章 利用约束刻蚀剂层技术制作砷化镓微光学透镜 | 第63-73页 |
| ·前言 | 第63-65页 |
| ·约束刻蚀剂层技术加工砷化镓微/纳光学元件需考虑的问题 | 第65-71页 |
| ·保持模板电极与砷化镓平行的问题 | 第65-68页 |
| ·模板电极与基底缝隙内溶液更新补充问题 | 第68-71页 |
| ·利用约束刻蚀技术在砷化镓材料上制作微/纳光学元件 | 第71-73页 |
| 第5章 电化学湿印章精密加工技术 | 第73-89页 |
| ·前言 | 第73-74页 |
| ·使用电化学湿印章技术对铝和镍的精密加工 | 第74-85页 |
| ·使用电化学湿印章技术对铝的精密加工 | 第74-82页 |
| ·使用电化学湿印章技术对镍的精密加工 | 第82-85页 |
| ·使用电化学湿印章技术对砷化镓的精密加工 | 第85-89页 |
| 第6章 探讨与展望 | 第89-92页 |
| ·约束刻蚀剂层技术的探讨与展望 | 第89-91页 |
| ·电化学湿印章技术的探讨与展望 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-101页 |
| 论文发表情况 | 第101-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
