高速摩擦抛光金刚石用抛光盘的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-28页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·金刚石概述 | 第10-19页 |
| ·金刚石的结构 | 第10-11页 |
| ·金刚石的性质 | 第11-15页 |
| ·金刚石的应用 | 第15-18页 |
| ·金刚石的制备 | 第18-19页 |
| ·金刚石膜抛光技术及发展趋势 | 第19-26页 |
| ·金刚石膜抛光技术概述 | 第19-21页 |
| ·金刚石膜抛光技术的发展趋势 | 第21-25页 |
| ·高速摩擦抛光技术概述 | 第25-26页 |
| ·课题来源及本文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| ·课题来源 | 第26页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 2 高速摩擦抛光盘材料的研制 | 第28-46页 |
| ·抛光盘材料配方的选择 | 第28-33页 |
| ·金刚石石墨化理论 | 第28-30页 |
| ·高速摩擦抛光对抛光盘材料的要求 | 第30-31页 |
| ·抛光盘材料配方的选择 | 第31-33页 |
| ·抛光盘材料的制备 | 第33-40页 |
| ·抛光盘制备工艺路线 | 第33-34页 |
| ·机械合金化技术 | 第34-38页 |
| ·放电等离子烧结技术 | 第38-40页 |
| ·抛光盘材料的性能表征 | 第40-45页 |
| ·测试仪器 | 第40-41页 |
| ·抛光盘材料的密度及显微硬度 | 第41-43页 |
| ·抛光盘材料的金相 | 第43-44页 |
| ·抛光盘材料的XRD分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 3 高速摩擦抛光金刚石膜试验 | 第46-61页 |
| ·高速摩擦抛光试验装置 | 第46-49页 |
| ·试验平台 | 第46-47页 |
| ·抛光盘夹具 | 第47-48页 |
| ·金刚石膜夹具 | 第48-49页 |
| ·试验参数及测试仪器 | 第49-50页 |
| ·试验结果及分析 | 第50-59页 |
| ·抛光过程中的界面温度 | 第50-53页 |
| ·金刚石膜抛光后的表面形貌及去除率 | 第53-55页 |
| ·抛光盘磨损后的表面形貌及磨损率 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 4 高速摩擦抛光金刚石膜的材料去除机理 | 第61-70页 |
| ·抛光前后金刚石膜的分析 | 第61-63页 |
| ·磨损前后抛光盘的分析 | 第63-65页 |
| ·抛光碎屑的分析 | 第65-66页 |
| ·抛光过程及材料去除机理分析 | 第66-68页 |
| ·金刚石相的结构转变 | 第66-67页 |
| ·碳的氧化 | 第67页 |
| ·碳向金属盘的扩散 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
