金属套管式微反应器中纳米铜的制备研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-15页 |
第一章 文献综述 | 第15-33页 |
·引言 | 第15页 |
·微反应技术 | 第15-19页 |
·微反应器的定义及分类 | 第15-16页 |
·微反应技术基本原理 | 第16-18页 |
·微通道混合原理 | 第17页 |
·膜分散混合原理 | 第17-18页 |
·微反应器的优点 | 第18-19页 |
·微反应器的应用 | 第19-24页 |
·有机合成中的应用 | 第19-20页 |
·硝化反应 | 第19-20页 |
·光化学反应 | 第20页 |
·催化反应 | 第20页 |
·微纳材料制备中的应用 | 第20-24页 |
·半导体纳米颗粒 | 第22-23页 |
·金属纳米颗粒 | 第23页 |
·其它无机颗粒 | 第23-24页 |
·纳米药物及聚合物微球 | 第24页 |
·纳米铜的制备研究 | 第24-30页 |
·纳米铜的应用 | 第24-26页 |
·纳米铜的制备方法 | 第26-30页 |
·液相化学还原法 | 第26-27页 |
·气相法 | 第27-28页 |
·固相法 | 第28-29页 |
·微乳液法 | 第29页 |
·其它方法 | 第29-30页 |
·论文选题的目的意义 | 第30-31页 |
·课题研究的主要内容 | 第31页 |
·研究方案 | 第31-33页 |
第二章 纳米铜的制备及表征 | 第33-55页 |
·引言 | 第33页 |
·化学试剂 | 第33-34页 |
·设备及实验流程 | 第34-36页 |
·材料的分析表征 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-54页 |
·以PVP作为保护剂水相法制备纳米铜 | 第36-41页 |
·PVP浓度的影响 | 第36-39页 |
·还原剂浓度的影响 | 第39-40页 |
·流量的影响 | 第40-41页 |
·以CTAB为保护剂在水相中制备纳米铜 | 第41-47页 |
·还原剂浓度的影响 | 第41-43页 |
·pH值的影响 | 第43-45页 |
·CTAB浓度的影响 | 第45-47页 |
·与间歇式搅拌实验的比较 | 第47-52页 |
·测试与表征结果 | 第47-51页 |
·对比结果分析 | 第51-52页 |
·有机相法制备纳米铜 | 第52-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第三章 Cu@SiO2核壳型纳米结构的制备 | 第55-67页 |
·引言 | 第55页 |
·化学试剂 | 第55-56页 |
·设备及实验流程 | 第56-57页 |
·材料的分析表征 | 第57页 |
·结果与讨论 | 第57-66页 |
·对水相法制备的纳米铜进行SiO2包覆 | 第57-63页 |
·SiO2添加量的影响 | 第57-59页 |
·溶剂中不同乙醇与水体积比的影响 | 第59-60页 |
·氨水添加量的影响 | 第60-62页 |
·反应时间对核壳结构的影响 | 第62-63页 |
·对有机相法制备的纳米铜进行SiO2包覆 | 第63-66页 |
·直接包覆 | 第63-64页 |
·洗涤后包覆 | 第64-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第四章 结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-77页 |
致谢 | 第77-79页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第79-81页 |
作者和导师简介 | 第81-82页 |
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第82-83页 |