| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 序言 | 第10-56页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·激光技术的发展现状 | 第10-12页 |
| ·超强激光等离子体相互作用的特点 | 第12-17页 |
| ·激光等离子体相互作用的数值模拟 | 第17-20页 |
| ·超强激光等离子体相互作用中的热点研究方向 | 第20-29页 |
| ·惯性约束聚变“快点火” | 第21页 |
| ·准静态自生磁场的产生 | 第21-23页 |
| ·快电子产生与准直 | 第23-25页 |
| ·实验室天体物理 | 第25-28页 |
| ·太赫兹辐射 | 第28页 |
| ·X射线激光 | 第28-29页 |
| ·激光等离子体相互作用中的电子加速 | 第29-34页 |
| ·激光等离子体相互作用中的离子加速 | 第34-46页 |
| ·靶背鞘场加速 | 第35-37页 |
| ·相对论诱导透明加速 | 第37-38页 |
| ·静电激波加速 | 第38-41页 |
| ·辐射压加速 | 第41-46页 |
| ·本论文的主要研究目的和研究内容 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-56页 |
| 第二章 两相加速产生sub-TeV质子束流 | 第56-74页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·两相加速模型 | 第57-60页 |
| ·质子注入到激光尾场的匹配条件 | 第57-58页 |
| ·离子穿越到簿膜靶背面的速度及时间 | 第58-60页 |
| ·尾场离子加速的解析理论 | 第60-70页 |
| ·尾场激发 | 第60-62页 |
| ·激光局域泵浦消耗及其蚀刻速度 | 第62-63页 |
| ·质子捕获条件和最低的等离子体密度 | 第63-65页 |
| ·质子在尾场加速区域的失谐长度 | 第65-67页 |
| ·加速质子的能量定标率和PIC验证结果 | 第67-70页 |
| ·小结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第三章 激光尾场加速产生短脉冲TeV准单能重离子束 | 第74-84页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·相对论动力学方程 | 第74-75页 |
| ·加速模型和PIC模拟 | 第75-79页 |
| ·尾场调制加速离子束流长度 | 第79-80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第四章 多级联激光尾场加速产生超短脉冲百GeV准单能离子束 | 第84-94页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·加速方案 | 第84-85页 |
| ·多密度界面调制 | 第85-86页 |
| ·PIC模拟 | 第86-90页 |
| ·结论 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-94页 |
| 第五章 超短超强激光脉冲驱动双尾场产生高品质质子束流 | 第94-108页 |
| ·引言 | 第94页 |
| ·双尾场通道离子加速模型 | 第94-101页 |
| ·产生双尾场通道的条件 | 第94-95页 |
| ·等离子体密度通道引比脉冲 | 第95-96页 |
| ·PIC粒子模拟 | 第96-101页 |
| ·大横向尺寸薄膜情况下的尾场离子加速 | 第101-102页 |
| ·背景为均匀离子体情况下的尾场离子加速 | 第102-103页 |
| ·三维情况 | 第103页 |
| ·小结 | 第103-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第六章 总结与展望 | 第108-110页 |
| 发表文章目录 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
