| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-12页 |
| ·显示技术及光电显示材料 | 第7页 |
| ·场发射平板显示器件对荧光层的的技术要求及存在的问题 | 第7-10页 |
| ·荧光材料的要求及存在的问题 | 第7-9页 |
| ·荧光层表面型貌的要求及现存的问题 | 第9-10页 |
| ·选题的意义 | 第10-12页 |
| 第二章 理论基础 | 第12-28页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第12-15页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12页 |
| ·ZnO中的缺陷 | 第12-14页 |
| ·ZnO的应用 | 第14-15页 |
| ·ZnO荧光薄膜的制备 | 第15-18页 |
| ·ZnO荧光薄膜的发光机理 | 第18-27页 |
| ·光电显示材料的分类 | 第18-19页 |
| ·材料发光的基本原理 | 第19-22页 |
| ·阴极射线激发材料的发光过程 | 第22-24页 |
| ·ZnO薄膜发光机理的研究状况 | 第24-27页 |
| ·ZnO薄膜的应用前景 | 第27-28页 |
| 第三章 实验方法 | 第28-39页 |
| ·溅射镀膜 | 第28-30页 |
| ·溅射镀膜的物理过程 | 第28-29页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第29页 |
| ·溅射镀膜的分类 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第30-32页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第31-32页 |
| ·直流反应磁控溅射实验装置 | 第32-34页 |
| ·设备的主要技术规范 | 第32页 |
| ·设备的结构 | 第32-33页 |
| ·溅射操作程序 | 第33-34页 |
| ·测试方法 | 第34-39页 |
| ·结构分析 | 第34-35页 |
| ·形貌分析 | 第35-36页 |
| ·导电性能测试 | 第36-37页 |
| ·发光特性测试 | 第37-39页 |
| 第四章 实验及结果分析 | 第39-60页 |
| ·ZnO薄膜的结构分析 | 第40-47页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第40-43页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第43-45页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第45-47页 |
| ·ZnO薄膜的形貌分析 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜形貌的影响 | 第47-48页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·ZnO薄膜的导电性能 | 第49-53页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜导电性能的影响 | 第49-50页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜导电性能的影响 | 第50-52页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜导电性能的影响 | 第52-53页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光特性分析 | 第53-56页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜光致发光特性的影响 | 第53-55页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜光致发光特性的影响 | 第55-56页 |
| ·ZnO薄膜的阴极射线发光特性分析 | 第56-60页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜阴极射线发光特性的影响 | 第56-57页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜阴极射线发光特性的影响 | 第57-58页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜阴极射线发光特性的影响 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 附录 | 第68页 |