| 提要 | 第1-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·纳米材料概述 | 第11-13页 |
| ·纳米材料分类 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的应用 | 第12-13页 |
| ·纳米薄膜材料制备技术 | 第13-21页 |
| ·溅射法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15-16页 |
| ·电化学沉积法 | 第16-18页 |
| ·化学镀法 | 第18-21页 |
| ·纳米线及其制备技术 | 第21-25页 |
| ·模板法 | 第22-23页 |
| ·激光烧蚀法 | 第23-24页 |
| ·直接氧化法 | 第24-25页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验工艺及研究方法 | 第27-35页 |
| ·化学镀铜工艺 | 第27-31页 |
| ·基体材料与实验设备 | 第27页 |
| ·镀液成分及作用 | 第27-28页 |
| ·化学镀铜的工艺流程 | 第28-31页 |
| ·铜氧化物及纳米线制备工艺 | 第31页 |
| ·恒电位电化学沉积氧化亚铜工艺 | 第31-32页 |
| ·基体材料与实验设备 | 第31页 |
| ·镀液成分与含量 | 第31-32页 |
| ·电沉积工艺流程 | 第32页 |
| ·薄膜结构、形态及性能测定 | 第32-35页 |
| ·结构及表面形貌观察 | 第32-34页 |
| ·铜膜厚度、结合强度、电阻的测量 | 第34页 |
| ·铜膜透光率的测量 | 第34页 |
| ·红外光谱的测量 | 第34-35页 |
| 第三章 玻璃表面化学镀纳米铜膜的微观结构及性能研究 | 第35-60页 |
| ·前言 | 第35-36页 |
| ·XRD 分析 | 第36-39页 |
| ·TEM 分析 | 第39页 |
| ·FESEM 分析 | 第39-42页 |
| ·AFM 分析 | 第42-47页 |
| ·铜膜沉积生长机理 | 第47-49页 |
| ·SDBS 对铜膜表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| ·铜膜-基体附着强度 | 第51页 |
| ·铜膜电阻率分析 | 第51-58页 |
| ·铜膜电阻率 | 第51-54页 |
| ·电阻率理论模型 | 第54-56页 |
| ·化学镀纳米铜膜电阻率分析 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 热氧化法制备铜氧化物薄膜的结构和光学性能 | 第60-72页 |
| ·前言 | 第60-61页 |
| ·氧化温度的影响 | 第61-64页 |
| ·氧化时间的影响 | 第64-67页 |
| ·铜氧化物薄膜的光学性能 | 第67-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 热氧化法制备氧化铜纳米线 | 第72-84页 |
| ·前言 | 第72-73页 |
| ·氧化温度的影响 | 第73-74页 |
| ·氧化时间的影响 | 第74-77页 |
| ·膜厚的影响 | 第77-81页 |
| ·纳米线的生长机理 | 第81页 |
| ·光学性能 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第六章 ITO 表面电沉积微纳米结构氧化亚铜的微观结构及性能 | 第84-103页 |
| ·前言 | 第84-86页 |
| ·电化学分析 | 第86-90页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第90-92页 |
| ·场发射扫描电子显微镜分析 | 第92-96页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第96-97页 |
| ·光学性能 | 第97-101页 |
| ·透光率 | 第97-100页 |
| ·禁带宽度 | 第100-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第七章 结论 | 第103-106页 |
| 参考文献 | 第106-130页 |
| 攻博期间发表的学术论文 | 第130-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 摘要 | 第132-136页 |
| ABSTRACT | 第136-140页 |