脉冲激光烧蚀晶体Ge的动力学模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·脉冲激光烧蚀技术的应用 | 第9-13页 |
| ·脉冲激光烧蚀技术在制备纳米材料上的应用 | 第9-12页 |
| ·脉冲激光烧蚀技术在分析化学上的应用 | 第12-13页 |
| ·脉冲激光烧蚀过程和机理的研究现状 | 第13-18页 |
| ·烧蚀蒸气的动力学特性分析 | 第14页 |
| ·激光烧蚀过程和机理的基本物理模型 | 第14-18页 |
| ·论文的工作及安排 | 第18-19页 |
| 2 激光与固体材料相互作用理论基础 | 第19-32页 |
| ·物质对激光的反射和吸收 | 第19-21页 |
| ·半导体对激光的吸收机制 | 第21-25页 |
| ·导体、半导体、绝缘体的能带分布 | 第21-22页 |
| ·半导体对激光的吸收 | 第22-25页 |
| ·纳秒级激光脉冲烧蚀的基本理论 | 第25-31页 |
| ·一维热传导方程 | 第26页 |
| ·Knudsen层理论 | 第26-29页 |
| ·Knudsen层外蒸汽流动 | 第29-30页 |
| ·蒸汽电离和对激光能量的吸收 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 3 纳秒脉冲激光烧蚀模型的建立 | 第32-46页 |
| ·模型建立的背景以及适用的条件 | 第32页 |
| ·一维热传导模型 | 第32-34页 |
| ·一维气体动力学模型 | 第34-36页 |
| ·等离子体的形成和对激光能量的吸收 | 第36-37页 |
| ·初始和边界条件 | 第37-40页 |
| ·一维热传导方程的初始和边界条件 | 第37-38页 |
| ·气体动力学的方程的初始和边界条件 | 第38-40页 |
| ·冲击波和数值计算方法 | 第40-45页 |
| ·冲击波的传播 | 第40页 |
| ·一维气体动力学方程的黎曼解法 | 第40-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 脉冲激光烧蚀过程和烧蚀蒸汽的动力学特性分析 | 第46-65页 |
| ·激光功率密度的影响 | 第46-50页 |
| ·激光功率密度对等离子体屏蔽的影响 | 第46-48页 |
| ·激光功率密度对靶面温度和蒸发深度的影响 | 第48-49页 |
| ·功率密度对烧蚀蒸汽膨胀的影响 | 第49-50页 |
| ·特定条件下脉冲激光烧蚀和烧蚀蒸汽的性质 | 第50-59页 |
| ·等离子体屏蔽对入射激光功率密度的影响 | 第50-51页 |
| ·Ge靶的加热、熔化、蒸发过程 | 第51-52页 |
| ·烧蚀蒸汽的性质 | 第52-54页 |
| ·烧蚀蒸汽的电离度 | 第54-56页 |
| ·屏蔽前后的蒸汽性质 | 第56-57页 |
| ·透明烧蚀蒸汽的性质 | 第57-59页 |
| ·背景气压的影响 | 第59-64页 |
| ·背景气压对靶面温度和蒸发深度的影响 | 第59-60页 |
| ·背景气压对烧蚀蒸汽膨胀过程的影响 | 第60-61页 |
| ·1000torr气压下烧蚀蒸汽的性质 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 结论与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
