场发射阵列薄膜技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·场发射的发展历史 | 第9-11页 |
| ·场发射阵列的技术进展 | 第11-15页 |
| ·课题研究的意义及目的 | 第15-16页 |
| ·课题研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 场致发射理论 | 第18-25页 |
| ·场发射机理 | 第18-22页 |
| ·空间电荷效应 | 第22-23页 |
| ·场发射理论发展困境及方向 | 第23-25页 |
| 第三章 阵列薄膜的相关研究 | 第25-30页 |
| ·硅基尖锥阵列薄膜 | 第25-28页 |
| ·SPINDT型阵列薄膜 | 第28-30页 |
| 第四章 六硼化镧薄膜的制备 | 第30-44页 |
| ·六硼化镧材料的特性 | 第30-33页 |
| ·六硼化镧薄膜的电子束蒸发法制备 | 第33-37页 |
| ·六硼化镧薄膜的电泳法制备 | 第37-39页 |
| ·六硼化镧薄膜逸出功的测量 | 第39-44页 |
| 第五章 场发射阵列的制备 | 第44-53页 |
| ·硅尖锥阵列的制备流程 | 第44页 |
| ·二氧化硅掩膜的制作 | 第44-45页 |
| ·硅的刻蚀 | 第45-48页 |
| ·氧化削尖 | 第48-53页 |
| 第六章 场发射阵列薄膜发射性能测试 | 第53-62页 |
| ·硅阵列硼化镧薄膜的制备 | 第53-55页 |
| ·场发射阵列硼化镧薄膜的发射特性测试 | 第55-62页 |
| 第七章：结束语 | 第62-64页 |
| ·本文主要工作总结 | 第62-63页 |
| ·工作展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 个人简历 | 第69页 |
| 攻读硕士研究期间取得的成果 | 第69-70页 |
