| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·热阴极技术发展史及其现状 | 第8-15页 |
| ·热阴极技术的起源与科研工作特点 | 第8-9页 |
| ·热阴极技术发展历程 | 第9-15页 |
| ·热阴极技术今后发展趋势 | 第15页 |
| ·课题研究背景及其意义 | 第15-17页 |
| ·论文的主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 覆膜钡钨阴极的构成及其对阴极性能的影响 | 第19-32页 |
| ·引言 | 第19-20页 |
| ·覆膜钡钨阴极的构成 | 第20-21页 |
| ·钨海绵基体、铝酸盐对覆膜浸渍钡钨阴极性能的影响 | 第21-25页 |
| ·钨海绵基体对覆膜钡钨阴极性能的影响 | 第21-22页 |
| ·铝酸盐对覆膜钡钨阴极性能的影响 | 第22-25页 |
| ·膜对覆膜钡钨阴极性能的影响 | 第25-32页 |
| ·覆膜钡钨阴极发射性能的提高 | 第25-27页 |
| ·覆膜钡钨阴极表面膜成分变化对发射的影响 | 第27-28页 |
| ·膜的厚度对覆膜钡钨阴极性能的影响 | 第28-32页 |
| 第三章 覆膜浸渍钡钨阴极的制备与检测 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·覆膜浸渍钡钨阴极的结构和制备工艺流程 | 第32-34页 |
| ·覆膜浸渍钡钨阴极的制备及检测 | 第34-37页 |
| ·覆膜钡钨阴极覆膜技术 | 第37-40页 |
| ·溅射覆膜 | 第37-38页 |
| ·直流四极溅射 | 第38-39页 |
| ·溅射成膜速率 | 第39-40页 |
| ·钡钨阴极发射表面清洗 | 第40-43页 |
| ·覆膜钡钨阴极表面薄膜形貌及薄膜质量检测 | 第43-46页 |
| ·覆膜钡钨阴极溅射膜的生长机理 | 第43-44页 |
| ·覆膜钡钨阴极表面薄膜的形貌及薄膜质量的检测 | 第44-46页 |
| 第四章 Os-W/Re和Os-Ru/ Re双层膜钡钨阴极的发射特性 | 第46-63页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·电场作用下热发射电流的流通规律 | 第46-50页 |
| ·“理想”二极管的全伏安特性和极间电位分布 | 第46-48页 |
| ·三个区域中的电流流通特点 | 第48-50页 |
| ·Os-W/Re和Os-Ru/Re双层膜钡钨阴极的发射特性 | 第50-63页 |
| ·试验阴极制备 | 第50-51页 |
| ·阴极发射性能试验设备 | 第51页 |
| ·阴极发射特性测试 | 第51-52页 |
| ·阴极发射特性测试方法和过程 | 第52-54页 |
| ·发射特性测试结果和分析 | 第54-63页 |
| 第五章 双层膜钡钨阴极表面特性分析 | 第63-79页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·双层膜钡钨阴极表面薄膜特性 | 第63-73页 |
| ·薄膜质量对 M型阴极至关重要 | 第63-65页 |
| ·薄膜的机械性能对薄膜质量的影响 | 第65-67页 |
| ·双层膜钡钨阴极老炼前后表面形貌的比较 | 第67-71页 |
| ·探讨 | 第71-73页 |
| ·Os-W/Re双层膜钡钨阴极的表面特性 | 第73-79页 |
| ·阴极发射表面成分分析 | 第73-75页 |
| ·阴极发射表面特性分析 | 第75-78页 |
| ·发射机理的探讨 | 第78-79页 |
| 第六章 结束语 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |