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COF基板精细线路制作工艺研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 COF 封装技术简介第10-17页
   ·COF(CHIP ON FILM OR CHIP ON FLEX)技术第10-13页
     ·COF 封装技术的特点与优势第11-12页
     ·COF 封装技术的制造工艺第12-13页
   ·COF 技术的研究现状与发展趋势第13-15页
     ·COF 技术的研究现状第13-14页
     ·COF 技术的发展趋势第14-15页
   ·课题的研究内容和方法第15-17页
第二章 COF 基板制造工艺及其原理第17-28页
   ·COF 精细线路制造工艺第17-20页
     ·减成法工艺第17-18页
     ·加成法工艺第18-19页
     ·半加成法工艺第19-20页
   ·孔金属工艺流程第20-23页
     ·钻孔第20-21页
     ·去钻污工艺第21-22页
     ·化学镀铜和黑孔化工艺第22页
     ·电镀铜工艺第22-23页
   ·精细线路的研制第23-28页
     ·图形转移工艺第23-25页
     ·显影第25页
     ·蚀刻第25-26页
     ·蚀刻过程中的问题与解决方法第26-28页
第三章 COF 基板精细线路制作关键工艺研究实验设计第28-51页
   ·表面处理溶液性能对比研究第29-30页
   ·片式减成法制作单面COF 挠性基板实验第30-36页
     ·基材尺寸稳定性实验第30-31页
     ·干膜性能研究第31-32页
     ·玻璃菲林制作25μm/25μm 精细线路研究第32-34页
     ·聚酯软菲林制作25μm/25μm 精细线路研究第34-36页
   ·半加成法制作单面COF 挠性基板研究第36-40页
     ·双氧水硫酸蚀刻液的蚀刻性能研究第37-38页
     ·铜箔减薄工艺实验第38-40页
   ·双面COF 挠性印制电路板孔金属化研究第40-43页
     ·孔清洗方法对比实验第41-42页
     ·黑孔化与化学镀铜工艺的选择第42-43页
   ·应用液态抗蚀剂制作双面COF 挠性基板精细线路研究实验第43-47页
     ·液态光致抗蚀剂曝光级数范围的确定第43-44页
     ·液态光致抗蚀剂显影线速度的选择第44-45页
     ·应用液态光致抗蚀剂制作精细线路时工艺参数的优化实验第45-47页
   ·单面COF 挠性基板小批量生产实验第47-48页
   ·产品检测第48-51页
     ·热应力冲击实验第48-49页
     ·金相切片测试第49页
     ·介质耐电压测试第49-51页
第四章 实验分析与讨论第51-76页
   ·表面处理溶液性能对比分析第51-52页
   ·片式减成法制作单面COF 挠性基板实验分析第52-63页
     ·基材稳定性实验第52-53页
     ·干膜性能研究实验分析第53-56页
     ·玻璃菲林制作25μm/25μm 精细线路研究第56-60页
     ·聚酯软菲林制作25μm/25μm 精细线路研究第60-63页
   ·半加成法制作单面COF 挠性基板研究第63-68页
     ·双氧水硫酸蚀刻液的蚀刻性能研究第63-65页
     ·铜箔减薄工艺实验第65-68页
   ·双面COF 挠性基板孔金属化研究第68-70页
     ·孔清洗方法对比实验第68-69页
     ·黑孔化与化学镀铜工艺的选择第69-70页
   ·双面COF 挠性基板精细线路的研究第70-73页
     ·液态光致抗蚀剂曝光级数范围的确定第70-71页
     ·液态光致抗蚀剂显影线速度的选择第71页
     ·应用液态光致抗蚀剂制作精细线路时工艺参数的优化实验第71-73页
   ·单面COF 挠性基板小批量生产实验结果与分析第73-76页
第五章 结论第76-78页
致谢第78-79页
参考文献第79-82页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第82-83页

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