| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-20页 |
| ·电沉积镍镀层概述 | 第10页 |
| ·残余应力及其测量方法 | 第10-15页 |
| ·残余应力的产生 | 第10-12页 |
| ·薄膜中残余应力的起源 | 第12-13页 |
| ·残余应力的测量方法 | 第13-15页 |
| ·纳米压痕技术概述 | 第15-19页 |
| ·纳米压痕技术的一般概念 | 第15页 |
| ·纳米压痕技术的应用 | 第15-16页 |
| ·纳米压痕系统的组成 | 第16-19页 |
| ·本论文的选题依据和主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 电沉积及纳米压痕法测量力学性能原理 | 第20-27页 |
| ·电沉积原理 | 第20-23页 |
| ·电沉积过程 | 第20-21页 |
| ·电沉积工艺 | 第21-22页 |
| ·样品说明 | 第22-23页 |
| ·纳米压痕法测量薄膜力学性能的原理 | 第23-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 电沉积镍镀层中的残余应力 | 第27-48页 |
| ·Suresh理论模型 | 第27-30页 |
| ·Yun-Hee理论模型 | 第30-35页 |
| ·Yun-Hee模型Ⅰ | 第30-32页 |
| ·Yun-Hee模型Ⅱ | 第32-33页 |
| ·Yun-Hee模型Ⅲ | 第33-35页 |
| ·模型间的联系 | 第35-36页 |
| ·压痕实验测量结果 | 第36-42页 |
| ·X射线衍射法测量电沉积镍镀层的残余应力 | 第42-47页 |
| ·X射线衍射法测量残余应力的原理 | 第42-43页 |
| ·X射线衍射法测量残余应力的实验结果 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 纳米压痕法测量电沉积镍镀层残余应力的理论模型 | 第48-54页 |
| ·压痕实验测量硬度的量纲分析 | 第48-51页 |
| ·确定测量硬度与残余应力的函数 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·论文总结 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录A(攻读学位期间发表论文目录) | 第61页 |