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磁性氧化物单晶薄膜的磁特性研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-20页
   ·引言第9-10页
   ·自发磁化与交换作用第10-11页
     ·海森伯(Heisenberg)局域电子直接交换作用第10页
     ·RKKY 交换作用(金属中的间接交换作用)第10页
     ·巡游电子交换作用第10-11页
     ·超交换作用、双交换作用等局域电子交换作用第11页
   ·磁各向异性第11-13页
     ·磁晶各向异性第11-12页
     ·感生各向异性和磁弹性各向异性第12页
     ·表(界)面各向异性第12-13页
   ·形状各向异性第13-15页
     ·退磁场第13-14页
     ·退磁场能第14页
     ·形状各向异性第14-15页
   ·自旋材料第15-18页
     ·半金属材料的能带第15-16页
     ·Fe_3O_4 晶格结构第16-17页
     ·Fe_3O_4 的 Wervey 低温相变第17-18页
   ·本论文的工作第18-19页
 参考文献第19-20页
第二章 基本实验方法及测量原理第20-28页
   ·薄膜的制备第20-22页
     ·薄膜生长过程第20页
     ·分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,简称 MBE)生长单晶薄膜第20-21页
     ·分子束外延(MBE)生长腔第21-22页
   ·结构的表征:第22-24页
     ·高能电子衍射(RHEED)原理第22-23页
     ·X 射线衍射第23-24页
   ·物性测量第24-27页
     ·振动样品磁强计(VSM)和 SQUID 磁强计第24-25页
     ·铁磁共振(FMR)第25-26页
     ·四探针法测电阻第26-27页
 参考文献第27-28页
第三章 Fe_3O_4薄膜的制备,结构表征和磁性研究第28-40页
   ·GaAs(100)衬底上 Fe_3O_4 薄膜的制备第28-30页
   ·外延结构分析第30-31页
   ·X 射线衍射的结构分析(XRD)第31-32页
   ·Fe_3O_4 薄膜各向异性的厚度依赖性第32-35页
   ·样品的常温下的磁矩的研究第35-36页
   ·Fe_3O_4 薄膜电阻随温度变化的研究第36-38页
     ·样品的电阻随温度变化的测量结果第36-38页
 本章小结第38-39页
 参考文献第39-40页
第四章 单晶(超)薄膜铁磁共振线宽的实验研究第40-52页
   ·铁磁共振线宽的表达式第40-45页
     ·铁磁共振内秉线宽表达式第40-43页
     ·磁性弛豫的几种机制第43-45页
   ·单晶超薄膜 Fe/GaAs 的铁磁共振线宽研究第45-50页
     ·样品制备和测量第45-46页
     ·铁磁共振线宽的实验结果第46页
     ·拟合公式的推导第46-48页
     ·实验数据的拟合与讨论第48-50页
   ·本章小结第50-51页
 参考文献第51-52页
第五章 单晶 Fe_3O_4薄膜铁磁共振的实验研究第52-63页
   ·单晶薄膜铁磁共振共振场的研究第52-59页
     ·铁磁共振测量结果第52-54页
     ·2 理论拟合的表达式第54-58页
     ·实验数据的拟合与讨论第58-59页
   ·Fe_3O_4 单晶薄膜铁磁共振线宽的研究第59-61页
     ·铁磁共振线宽相关的理论表达式第59-60页
     ·实验数据的拟合与讨论第60-61页
   ·本章小结第61-62页
 参考文献第62-63页
攻读硕士期间发表的论文第63-64页
致谢第64页

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