| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-32页 |
| ·铁电体及铁电材料概述 | 第14-17页 |
| ·铁电体的电滞回线及电畴结构 | 第17-20页 |
| ·ABO_3钙钛矿铁电材料结构及性能 | 第20-22页 |
| ·铁电薄膜的研制 | 第22-30页 |
| ·铁电薄膜的研究进展及应用 | 第22-24页 |
| ·常用的铁电薄膜制备技术 | 第24-26页 |
| ·铁电薄膜研究存在的问题 | 第26-30页 |
| ·本论文的技术路线及研究方案 | 第30-32页 |
| 第二章 溶胶—凝胶工艺改进及PZT薄膜制备研究 | 第32-62页 |
| ·溶胶—凝胶工艺改进 | 第32-41页 |
| ·传统的溶胶—凝胶技术 | 第32-33页 |
| ·改进的溶胶—凝胶工艺(一)：独立前驱单体法 | 第33-39页 |
| ·改进的溶胶—凝胶涂膜工艺(二)：反提拉涂膜法 | 第39-41页 |
| ·溶胶—凝胶改进工艺制备PZT薄膜路线图 | 第41-44页 |
| ·PZT溶胶液的热重、差热分析 | 第44-45页 |
| ·反提拉涂膜厚度实验 | 第45-47页 |
| ·溶胶浓度对膜厚的影响 | 第45-46页 |
| ·反提拉速度对膜厚的影响 | 第46-47页 |
| ·反提拉角度对膜厚的影响 | 第47页 |
| ·前驱体浓度、组成对薄膜结构与性能的影响 | 第47-60页 |
| ·不同浓度PZT前驱体涂膜实验 | 第47-50页 |
| ·涂膜次数及膜厚与薄膜结构性能的关系 | 第50-53页 |
| ·PZT前驱体中Pb的不同过量摩尔浓度对薄膜织构的影响 | 第53-55页 |
| ·XPS技术对薄膜成分含量及元素损失分析 | 第55-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第三章 Seeding-layer与PZT多层薄膜结构研究 | 第62-74页 |
| ·PT seeding-layer及PT／PZT／PT多层薄膜结构分析 | 第62-64页 |
| ·PT／PZT／PT多层膜结构的电畴观察 | 第64-66页 |
| ·PT／PZT／PT多层薄膜的电性能分析 | 第66-68页 |
| ·PT、TiO_2和ZrO_2晶种层与PZT多层薄膜取向 | 第68-72页 |
| ·PT晶种层与PZT多层薄膜取向 | 第68-70页 |
| ·TiO_2和ZrO_2晶种层与PZT多层薄膜取向 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第四章 不同金属阳离子掺杂研究 | 第74-86页 |
| ·La~(3+)、Sr~(2+)、Ca~(2+)和Ba~(2+)混合离子掺杂 | 第74-76页 |
| ·混合金属离子掺杂PZT薄膜的结构与性能 | 第76-80页 |
| ·La~(3+)单独掺杂与La~(3+)和Ca~(2+)混合掺杂 | 第80-82页 |
| ·不同La~(3+)离子浓度掺杂 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第五章 薄膜热处理工艺研究 | 第86-108页 |
| ·晶体成核理论 | 第86-92页 |
| ·热分解(预退火)工艺研究 | 第92-97页 |
| ·不同退火工艺对薄膜结构和性能影响研究 | 第97-106页 |
| ·快速退火工艺 | 第97-100页 |
| ·退火温度对薄膜结构性能的影响 | 第100-102页 |
| ·退火气氛对薄膜结构性能的影响 | 第102-105页 |
| ·退火温度和气氛对基片电极的影响 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-108页 |
| 第六章 ZnO陶瓷靶制备工艺及RF溅射薄膜研究 | 第108-121页 |
| ·ZnO薄膜性能简介和ZnO／PZT多层薄膜设计 | 第108-110页 |
| ·ZnO掺杂Li~+陶瓷靶的制备 | 第110-120页 |
| ·最佳掺杂Li~+浓度实验 | 第111-112页 |
| ·不同烧结温度实验 | 第112-114页 |
| ·不同成型压力实验 | 第114-115页 |
| ·ZnO溅射靶制备 | 第115-118页 |
| ·不同基片上RF溅射ZnO薄膜试验 | 第118-120页 |
| ·本章小结 | 第120-121页 |
| 第七章 c轴择优取向ZnO薄膜的RF溅射工艺与结构研究 | 第121-134页 |
| ·薄膜厚度实验 | 第121-123页 |
| ·不同的溅射温度试验 | 第123-127页 |
| ·不同的退火温度实验 | 第127-128页 |
| ·不同的溅射气氛实验 | 第128-130页 |
| ·不同的溅射功率实验 | 第130-132页 |
| ·本章小结 | 第132-134页 |
| 第八章 PZT／ZnO多层铁电薄膜研究 | 第134-140页 |
| ·铁电多层膜与异质结构 | 第134-135页 |
| ·ZnO缓冲层对PZT／ZnO多层膜微结构与取向的影响 | 第135-137页 |
| ·ZnO-Al_(0.03)氧化物电极对PZT多层薄膜性能的影响 | 第137-139页 |
| ·本章小结 | 第139-140页 |
| 第九章 总结与展望 | 第140-144页 |
| ·本论文主要工作总结 | 第140-142页 |
| ·本论文主要创新点 | 第142页 |
| ·展望 | 第142-144页 |
| 参考文献 | 第144-156页 |
| 致谢 | 第156-157页 |
| 博士期间发表和已录用的文章及专利 | 第157-158页 |
| 个人简历 | 第158页 |
