STO薄膜的非线性介电性质及其微波应用研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 引论 | 第11-21页 |
| ·铁电材料研究进展及其应用 | 第11-13页 |
| ·STO薄膜的性质 | 第13-17页 |
| ·压控微波器件的研究现状 | 第17-20页 |
| ·本论文的选题及研究目标 | 第20-21页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第21-37页 |
| ·STO薄膜的生长方法 | 第21-25页 |
| ·PLD基本原理 | 第22-23页 |
| ·PLD的技术优势 | 第23-24页 |
| ·设备简介 | 第24-25页 |
| ·STO薄膜微观结构的表征 | 第25-30页 |
| ·原子力显微分析 | 第25-27页 |
| ·X射线衍射分析 | 第27-29页 |
| ·STO薄膜的厚度测量 | 第29-30页 |
| ·压控电容的研制工艺流程 | 第30-33页 |
| ·STO薄膜介电性能的测量 | 第33-37页 |
| ·STO薄膜的介电性能的低频测量 | 第33-35页 |
| ·STO薄膜介电性能的高频测试和微波电路的测量 | 第35-36页 |
| ·STO薄膜的漏电流测量 | 第36-37页 |
| 第三章 压控电容的设计 | 第37-71页 |
| ·叉指电容的物理模型 | 第39-41页 |
| ·叉指电容计算的经验公式 | 第41页 |
| ·叉指电容的保角变换计算 | 第41-47页 |
| ·叉指电容的有限元建模分析 | 第47-51页 |
| ·铁电薄膜压控电容的建模分析 | 第51-62页 |
| ·IDC的两个等比率放缩 | 第51-53页 |
| ·薄膜介电常数对叉指电容的影响 | 第53-57页 |
| ·叉指拓扑结构对叉指电容的影响 | 第57-60页 |
| ·采用叉指电容研究STO薄膜菲线性介电性质 | 第60-62页 |
| ·压控电容的微波S参数提取 | 第62-71页 |
| 第四章 STO薄膜的PLD生长研究 | 第71-93页 |
| ·工艺参数对STO薄膜微观结构的影响 | 第71-81页 |
| ·激光能量密度对STO薄膜的影响 | 第71-73页 |
| ·生长湿度对STO薄膜微观结构的影响 | 第73-76页 |
| ·氧分压对STO薄膜的影响 | 第76-79页 |
| ·激光脉冲频率对STO薄膜表面形貌的影响 | 第79-80页 |
| ·原位退火对STO薄膜的影响 | 第80-81页 |
| ·基片特性对STO薄膜微观结构的影响 | 第81-90页 |
| ·基片种类对STO薄膜微观结构的影响 | 第81-85页 |
| ·表面台阶结构对STO薄膜微观结构的影响 | 第85-90页 |
| ·STO薄膜生长工艺参数的优化 | 第90-93页 |
| 第五章 STO薄膜非线性介电性质研究 | 第93-111页 |
| ·晶粒尺寸对薄膜非线性介电性能的影响 | 第93-96页 |
| ·应力对STO薄膜非线性介电性能的影响 | 第96-97页 |
| ·氧空位对STO薄膜介电性能的影响 | 第97-100页 |
| ·氧空位浓度梯度薄膜的研究 | 第100-103页 |
| ·STO／YBCO集成薄膜的生长及性质研究 | 第103-111页 |
| 第六章 STO薄膜压控微波器件与电路应用 | 第111-127页 |
| ·STO薄膜压控电容谐振器的研制 | 第111-118页 |
| ·STO薄膜压控电容微带滤波器的研制 | 第118-122页 |
| ·STO薄膜单片式压控滤波器的设计 | 第122-127页 |
| 第七章 结论 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-139页 |
| 致谢 | 第139-141页 |
| 在学期间发表论文情况 | 第141页 |
