| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·TiNi 薄膜 | 第12-18页 |
| ·TiNiPd 合金及薄膜 | 第18-25页 |
| 第二章 TiNiPd 形状记忆薄膜的制备 | 第25-38页 |
| ·溅射薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·溅射薄膜的成分 | 第26-31页 |
| ·不同基片溅射薄膜的成分分布 | 第31-33页 |
| ·溅射薄膜的组织结构状态 | 第33-35页 |
| ·溅射薄膜成分偏离的分析 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 TiNiPd 非晶态薄膜的晶化及氧化 | 第38-55页 |
| ·溅射非晶薄膜的晶化温度 | 第38-44页 |
| ·溅射态非晶薄膜的晶化激活能 | 第44-47页 |
| ·TiNiPd 薄膜的氧化特性 | 第47-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 TiNiPd 薄膜的组织与结构 | 第55-79页 |
| ·实验方法 | 第55-57页 |
| ·Ti_(51.5)Ni_(26.2)Pd_(22.5)薄膜的实验结果及分析 | 第57-70页 |
| ·其它 TiNiPd 薄膜的实验结果及分析 | 第70-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 TiNiPd 薄膜的形状记忆效应 | 第79-102页 |
| ·形状记忆的试样和测试方法 | 第79-81页 |
| ·TiNiPd 薄膜的形状记忆行为 | 第81-84页 |
| ·TiNiPd 薄膜的温度-弯曲应变曲线 | 第84-89页 |
| ·TiNiPd 薄膜的形状回复率 | 第89-97页 |
| ·分析和讨论 | 第97-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 TiNiPd 薄膜的拉伸及内耗特性 | 第102-126页 |
| ·拉伸试样和测试方法 | 第102-103页 |
| ·拉伸试验结果及分析 | 第103-118页 |
| ·内耗测定结果及分析 | 第118-125页 |
| ·本章小结 | 第125-126页 |
| 第七章 结论 | 第126-128页 |
| 本文创新点 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-137页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第137-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
| 学位论文出版授权书 | 第139页 |