集成电路工业含氟废水处理技术研究与应用
| 第1章 含氟工业废水的处理方法及其技术进展 | 第1-27页 |
| ·含氟废水的来源及其水质特点 | 第10-12页 |
| ·含氟废水的来源 | 第10-11页 |
| ·含氟工业废水特点 | 第11-12页 |
| ·含氟废水对生态环境的影响 | 第12-13页 |
| ·含氟废水的处理方法及其技术进展 | 第13-27页 |
| ·化学沉淀法 | 第13-16页 |
| ·混凝沉降法 | 第16-19页 |
| ·吸附法 | 第19-23页 |
| ·其他方法 | 第23-25页 |
| ·工艺分析 | 第25-27页 |
| 第2章 研究背景、试验方案和内容 | 第27-34页 |
| ·研究背景 | 第27页 |
| ·研究目的 | 第27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| ·试验方案 | 第28-34页 |
| ·试验方案 | 第28-29页 |
| ·试验步骤 | 第29-30页 |
| ·试验材料与设备 | 第30-31页 |
| ·离子选择电极法测定F~-浓度 | 第31-34页 |
| 第3章 氢氧化钙沉淀除氟试验研究 | 第34-52页 |
| ·研究目的 | 第34页 |
| ·试验方案 | 第34页 |
| ·试验结果与分析 | 第34-48页 |
| ·氢氧化钙投加量为100％时的试验结果分析 | 第34-38页 |
| ·氢氧化钙投加量为150％时的试验结果分析 | 第38-41页 |
| ·氢氧化钙投加量为200％时的试验结果分析 | 第41-44页 |
| ·氢氧化钙投加量为250％时的试验结果分析 | 第44-48页 |
| ·试验结果与讨论 | 第48-51页 |
| ·氢氧化钙沉淀试验结果显著性分析 | 第48-50页 |
| ·氢氧化钙沉淀最佳工况讨论 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 氯化钙沉淀除氟试验研究 | 第52-69页 |
| ·研究目的 | 第52页 |
| ·试验方案 | 第52-53页 |
| ·试验结果与分析 | 第53-65页 |
| ·氯化钙投加量为100％时的试验结果分析 | 第53-56页 |
| ·氯化钙投加量为150％时的试验结果分析 | 第56-59页 |
| ·氯化钙投加量为200％时的试验结果分析 | 第59-62页 |
| ·氯化钙投加量为250％时的试验结果分析 | 第62-65页 |
| ·试验结果与讨论 | 第65-68页 |
| ·氯化钙沉淀试验结果显著性分析 | 第65-67页 |
| ·氯化钙沉淀最佳工况讨论 | 第67页 |
| ·钙盐种类的确定 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 混凝沉淀除氟试验研究 | 第69-82页 |
| ·研究目的 | 第69页 |
| ·试验原理 | 第69-70页 |
| ·试验方案 | 第70页 |
| ·试验结果与分析 | 第70-80页 |
| ·PAC、PFC混凝沉淀试验结果 | 第70-76页 |
| ·Heldy-F混凝沉淀试验结果 | 第76-80页 |
| ·试验结果讨论 | 第80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第6章 含氟废水混凝沉淀处理工艺设计与运行 | 第82-92页 |
| ·含氟废水来源 | 第82-83页 |
| ·设计参数 | 第83-84页 |
| ·污水处理水质及水量设计指标 | 第83页 |
| ·出水排放标准 | 第83-84页 |
| ·工艺设计计算 | 第84-89页 |
| ·含氟处理工艺投药量计算 | 第84-86页 |
| ·单体设计计算 | 第86-89页 |
| ·工艺设计图纸 | 第89页 |
| ·运行效果及分析 | 第89-90页 |
| ·运行成本分析 | 第90-92页 |
| 第7章 结论与建议 | 第92-94页 |
| ·结论 | 第92页 |
| ·存在问题与建议 | 第92-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 附录A 工艺设计图纸 | 第97-104页 |
| 个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第104页 |
